电镀工艺对镍纳米膜微观结构及硬度的影响.pdfVIP

王姗姗等 电镀工艺对镍纳米膜微观结构及硬度的影响 电镀工艺对镍纳米膜微观结构及硬度的影响 王姗姗 ，祝要民 ，任凤章 。殷立涛 (1．河南科技大学，洛阳471003；2．河南省有色金属材料科学与加工技术重点实验室，洛 阳471003) [摘 要] 采用直流 电沉积法制备纳米晶镍膜，研究了添加剂c!H NaS()，TJ，GI一100对镀层微观表面 形貌、硬度、晶粒尺寸及织构的影响，同时探讨了电流密度对硬度的影响。结果表 明：在无添加剂和仅加入 CzHz NaS()时，改变了镀层晶面的生长速率和晶粒快速的生长方向，使 (200)晶面发生织构；TJ的添加显著细化晶粒； TJ和GI一100复合添加使镀层晶粒在 (111)晶面择优取向生长。3种添加剂的复合作用，使镀层表面形貌及硬度 达到最佳状态 。在 电镀条件相 同时，镀层的硬度随电流密度的增加而增加 。 [关键词] 纳米晶Ni膜；添加剂；硬度 ；微观形貌；织构 [中图分类号]TG174．441 [文献标识码]A [文章编号]1001～3660(2010)02～0052～03 EffectofPlatingProcesson theM icrostructureandHardnessofNiNano-films WANG Shah-shah ，ZHUYao—rain 。REN Feng-zhang ～．¨N Li—tao (1．HenanUniversityOfScienceandTechnology，Iuoyang471003。China； 2．HenanKeyLaboratoryofAdvancedNon ferrousM etals，Luoyang471003，China) ~Abstract] NiHano—filmswL,reobtainedbydirectcurrente1ectrodep。sition．TheeffectofCl2H1NaSO4，TJand (I～100oncoatingofmicro—surfacemorphology，hardness．grain sizeand texture．and therelationofbetweencurrent densityandhardnesswerestudied．Theresultsindicatethatthegrowth rateanddirectionofthecrystalsurfaceare changed，andthecryslalplane(200)isoccurredtexturewhentheelectrobathisabsenceofadditivesoronlyjoinCl2H NaSO4．TheadditionofTJmakethegrainsignificantrefainment．Thecoatinggrainsprefertogrow withorientationin thecrystalplane(111)whenTJandGI～100areaddedintheelectrobath．Surfacemorphologyandhardnessofthecoat— ingachievethebestconditionwithaddingthreekindsofadditives．()nthesameplatingconditions，thecoatinghardness increaseswiththeincreasementofcurrentdensity． [Keywords] nanocrystallineNifilm；additive；hardness；microstructure；texture 金属纳米薄膜材料具有特殊的性能，广泛应用于 王赫莹、宋博等 对镁铝及其合金表面电镀镍的电 工业 的多个领域，尤其在 电子工业领域 占有非常重要 流密度及镀层表面微观形貌等进行 了研究，但未提及 的地位，例如 ：半导体集成 电路 、光学、电学等。近年 镀镍添加剂对镀液及镀层相关性能的影响。本文利用 来 ，金属纳米薄膜材料成为学者研究的热点。 直流电沉积方法