新型电子阻挡层结构对蓝光InGaN发光二极管性能的提高.pdfVIP

新型电子阻挡层结构对蓝光InGaN发光二极管性能的提高.pdf

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第34卷第3期 发 光 学 报 V。1.34N。.3 2013年3月 CHINESE JOURNALOFLUMINESCENCEMar..2013 Article ID:1000-7032(2013)03旬345-06 Performance ofBlueInGaN Improvement DiodewithASpecialDesigned Electron·blockingLayer DING Bin—bin,ZHAO Fang,SONGJing-jing,XIONG Jian—yong, ZHENG Shu—wen,YU Xiao—peng,XU De—tao, Yi—qin,ZHOU ZHANG Tao,FAN Guang—han+ Materialsand (1mtit以eofOpto—Electronic ChinaNormal 51063 Technology,South 1,China) University,Guangzhou }CorrespondingAuthor,E—mail:咖n@scnLt.edu.en kindsof Abstract:Three basedLEDwere numericallv.Thevare electron—blockinglayer(EBL)A1GaN compared eonventionalA1GaN Al EBL,AIGaN-GaN—A1GaN(AGA)andgradual A1GaN—GaN.AlGaN(GAGA) composition EBL.Their were involvedcarrierconcentrationin porfermanee theactive band analyzed region,energydiagram, electrostaticfieldandintemal resultsindicatethattheLEDwithanGAGAEBL quantum efficiency(IQE).The exhibitsabetterhole more lowerelectron asmaller injectionefficiency,apeaceableefficiency

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