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第34卷第3期 发 光 学 报 V。1.34N。.3
2013年3月 CHINESE
JOURNALOFLUMINESCENCEMar..2013
Article
ID:1000-7032(2013)03旬345-06
Performance ofBlueInGaN
Improvement
DiodewithASpecialDesigned
Electron·blockingLayer
DING
Bin—bin,ZHAO
Fang,SONGJing-jing,XIONG
Jian—yong,
ZHENG
Shu—wen,YU
Xiao—peng,XU De—tao,
Yi—qin,ZHOU
ZHANG
Tao,FAN
Guang—han+
Materialsand
(1mtit以eofOpto—Electronic ChinaNormal 51063
Technology,South 1,China)
University,Guangzhou
}CorrespondingAuthor,E—mail:咖n@scnLt.edu.en
kindsof
Abstract:Three basedLEDwere numericallv.Thevare
electron—blockinglayer(EBL)A1GaN
compared
eonventionalA1GaN Al
EBL,AIGaN-GaN—A1GaN(AGA)andgradual A1GaN—GaN.AlGaN(GAGA)
composition
EBL.Their were involvedcarrierconcentrationin
porfermanee theactive band
analyzed region,energydiagram,
electrostaticfieldandintemal resultsindicatethattheLEDwithanGAGAEBL
quantum
efficiency(IQE).The
exhibitsabetterhole more lowerelectron asmaller
injectionefficiency,apeaceableefficiency
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