氮流量对贫铀表面磁控溅射CrNx薄膜结构与性能的影响.pdfVIP

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2017-09-13 发布于重庆
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第27 卷第6 期无机材料学报 Vol. 27 No. 6 2012 年6 月 Journal of Inorganic Materials Jun., 2012 文章编号: 1000-324X(2012)06-0603-06 DOI: 10.3724/SP.J.1077.2012.00603 氮流量对贫铀表面磁控溅射 CrNx 薄膜结构与性能的影响 1 2 1 1 2 2 朱生发 , 吴艳萍 , 刘天伟 , 杨锁龙 , 唐凯 , 魏强 (1. 表面物理与化学重点实验室, 绵阳 621907; 2. 中国工程物理研究院, 绵阳 621900) 摘要: 金属铀的化学性质十分活泼, 极易发生氧化腐蚀. 为改善基体的抗腐蚀性能, 采用非平衡磁控溅射技术在金属铀表面制备了不同氮含量的CrNx 薄膜. 采用扫描电子显微镜(SEM)、X 射线衍射技术(XRD)、X 射线光电子能谱(XPS) 、动电位极化曲线, 分别研究了薄膜形貌、物相结构、表面元素化学价态及抗腐蚀性能. 结果表明, 当氮流量为 10 sccm 时薄膜主要为体心立方的α-Cr, 随氮流量的增大, 薄膜转化为六方Cr2N 和立方CrN 结构, 其择优取向由Cr(110)转化为Cr2N(111)及CrN(200), 金属态Cr 的含量逐渐减少, 氮化态Cr 的含量增多, Cr2p3/2 的结合能峰位逐渐向高结合能方向移动. CrN 薄膜呈纤维状结构, 当氮流量增大到30 sccm 时, 生成了Cr N 的密排结构, 有 x 2 效改善了薄膜的致密性. 在金属铀表面制备CrNx 薄膜后, 自然腐蚀电位增大, 腐蚀电流密度降低, 当氮流量增大到 30 sccm 时, 薄膜的自然腐蚀电位提高了近550 mV 左右, 腐蚀电流密度降低约两个数量级, 有效改善了贫铀表面的抗腐蚀性能. 关键词: 贫铀; 非平衡磁控溅射; CrNx 薄膜; 氮流量; 腐蚀性能中图分类号: TG174 文献标识码: A Effect of N Flow on Microstructure and Properties of CrN Film Prepared by