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第 58卷 第 11期 2009年 11月 物 理 学 报 Vo1.58,No.11,November,2009
1000—3290/2009/58(11)/8044—06 ACTA PHYSICA SINICA ⑥2009Chin.Phys.Soc.
ZnO一维纳米结构的形貌调控与亲疏水性研究*
武 祥’ 蔡 伟 曲凤玉
1)(哈尔滨师范大学化学化工学院 ,哈尔滨 150025)
2)(哈尔滨工业大学材料科学与工程学院,哈尔滨 150001)
(2009年 2月20日收到 ;2009年 3月 19 日收到修改稿 )
分别使用金属、半导体等类型的基片作沉积衬底 ,采用气相沉积的方法合成 了多种 ZnO一维纳米结构,如塔状
结构、锥状结构、蘑菇状结构、环状结构等等 .用扫描 电镜 ,透射 电镜等对合成产物的形貌和结构进行 了研究,结果
发现沉积衬底对合成产物形貌和结构有着重要 的影响.同时对合成塔状纳米结构的生长机理做 了系统地分析 ,并
研究了其相应的亲疏水性能 .
关键词 :纳米结构 ,气相沉积,形貌调控 ,结构表征
PACC:8110B,6146,6870
1.引 言 2.实验部分
一 维纳米材料因其特有的物理和化学性能一直 所用的衬底如 Si片,zn片等首先在丙酮中超声
引起人们的广泛关注.纳米线可以用作制造压电纳 半小时,然后用去离子水冲洗晾干.将 ZnS(纯度
米发电机 。,激光器 和场发射器 等微纳器件 ; 99.99%AlfaAlser)和C粉均匀混合后放在氧化铝瓷
纳米管可作为构建模块制作微流腔 .同时人们也 舟中,然后置于管式炉中部 .将整个密闭系统抽真空
使用各种各样的制备方法合成 了超 晶格、异质结和 到 100Pa后 ,通入高纯氩气,保持 3h以后 ,管式炉
分级纳米结构 ,这大大拓宽 了一维纳米材料的 以18℃/min的速度加热到900℃,氩气流速恒定在
使用范围. 100cm3/min(SCCM).接着炉子在 900℃保温 2h,反
ZnO作为一种重要的Ⅱ一Ⅵ族直接宽禁带半导体 应过程中炉 内压强保持在 0.05MPa.反应结束后,
化合物,其禁带宽度为 3.37ev,激子束缚能为 60 用X射线衍射仪 (RigakuDmax.rB,CuKaradiation,
meV.具有优异的压 电性能和生物相容性 .自从 2001 = 0.1542nm,40kV,100mA)、场发射扫描显微镜
年 Wang等发现纳米带结构以来 ¨,关于ZnO一维纳 (HitachiS-4800)、能 量 散 射 x 射 线 谱 (EDX,
米结构的研究一直方兴未艾.到 目前为止 ,人们已经 INCA300)、透射电子显微镜 (JEOL.2010F)对合成的
使用很多制备方法合成了形形色色的ZnO结构,如纳 产物形貌和结构进行了表征 .用接触角仪 (oca2o)
米线 、纳米片n 、纳米棒n 、纳米环 、纳米钉 ]、 对合成产物的润湿性能进行了研究 .
纳米弹簧 、纳米城堡 。等等 .然而不同原理和制备
方法合成的结构各不相同,只有得到大量尺寸可控、 3.结果与分析
形貌均匀的一维纳米材料 ,才有可能对其各种性能进
行系统地研究,进而把其组装成器件 .本文利用气相 大量实验表明:用钨片作衬底 ,合成的产物产量
沉积的方法合成了多种 ZnO纳米结构 ,分析了衬底对 大,覆盖整个衬底表面,产物形貌为蘑菇状 .图 1(a)
合成产物形貌的影响,讨论了合成塔状纳米结构的生 是低倍扫描电镜照片,图 1(b)是图1(a)中相应位置
长机理,并研究了其相应地亲疏水性能.
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