氧气流量对反应磁控溅射铜氧化物薄膜结构和光学性质的影响.pdfVIP

2010年第3期 漳州师范学院学报 (自然科学版) No．3．2010年 (总第69期) JournalofZhangzhouNormalUniversity(Nat．Sci．) GeneraINo．69 文章编号：1008．7826(2010)03．0052．05 氧气流量对反应磁控溅射铜氧化物薄膜结构和光学性质的影响 肖荣辉 ’，林丽梅 ，郑明志 ，彭福川 ，赖发春 (1．三明学院 物理与机电工程系，福建 三明 365004；2．福建师范大学 物理与光电信息科技学院，福建 福州 350007) 摘 要：反应磁控溅射方法在玻璃基片上沉积铜氧化物薄膜，研究氧气流量对薄膜结构和光学性质的影响． 用 x射线衍射仪检测薄膜的结构，分光光度计测量薄膜的透射和反射光谱，采用拟合正入射透射光谱数据的方 法计算薄膜的折射率、消光系数及厚度．结果表明，薄膜沉积过程中。随着氧气流量的增加，铜氧化生成物从 CuO逐步过渡到 cuo3，最后为CuO；当氧氩流量比为6：25时，生成单相多晶结构的cu：o薄膜，薄膜的折射 率和消光系数随波长增加而减小，带隙为2．49eV；不同氧气流量条件下制备的Cu0，CuO薄膜的折射率和消 光系数随氧流量的增加而增加． 关键词：铜氧化物 ；薄膜 ；氧气流量 ；磁控溅射 ；光学性质 中图分类号： 0484 文献标识码： A EffectsofOxygenFlow RateontheStructuralandOpticalPropertiesof CopperOxideFilmsDepositedbyDCReactiveM agnetronSputtering XIAO Rong．hui，LIN Li．mei，ZHENG M ing．zhi，PENG Fu．chuan ，LAIFa．chun (1．DepartmentofPhysics，MechanicalandElectricEngineering，SanmingUniversity，Sanming365004，China； 2．SchoolofPhysicsandoptoeIectronicsTechnology，FujianNormalUniversity，Fuzhou350007，China) Abstract：CopperoxidefilmsweredepositedonglasssubstratesbyDC reactivemagnetronsputteringwith various oxygen flows rates． The structure and optical properties of the films were studied by X—ray diffractometer， double-beam spectrophotometer,respectively．Theopticalconstantsandthicknessesofthefilms wereobtained from thesimulationofnormalincidencetransmittance．Theresultsshow thatthecopperoxide changesfrom Cu2O toCu403andCuO astheoxygenflow rateincreasesfrom 6to9and12sccm ．W hentherateof oxygenflow ratetoArflow rateis6：25．thefilm isCu20 andopticalbandgapis2．49eV,andtheopticalconstants decreasewith increasingwavelength．Therefractiveindexandextinctioncoeffi cientincreasewiththeincreaseof oxygenflow rate． Keywords：Copperoxides；Films；Oxygenflow rate；Magnetronsputtering ；Opticalproperties 1