脉冲喷射电沉积纳米晶镍镀层的工艺优化.pdfVIP

第 3O卷 第 4期 湘 潭 大 学 自 然 科 学 学 报 VoI．3ONo．4 20o8年 12月 NaturalScienceJournalofXiangtanUniversity Dec．2OO8 脉冲喷射 电沉积纳米晶镍镀层的工艺优化 戴翠英 。， 毛卫 国 。， 潘 勇 (1．湘潭大学 材料与光 电物理学院，湖南 湘潭 4lllO5； 2．湘潭大学 低维材料及其应用技术教育部重点实验室，湖南 湘潭 4lllO5) [摘要] 为了在硫酸盐体系中得到工艺稳定 、光亮、硬度高 的纳米晶镍镀层，进行了 4因素 (电流密度 、喷速 、脉冲频率和 占空比)3水平正交试验．优选出制备微观结构镀层的最佳 的工艺条件是 ：喷速 1000L／h，电流密度 2O．4A／dm ．占空比 40 ，脉冲频率 1OooHz；制备硬度镀层的最佳的工艺条件是：电流密度 15．3A／dm。，占空比40 ，喷速 14OoL／h，脉冲 频率 lOO0Hz．分析了各因素对镀层晶粒尺寸和硬度的影响．结果表明，电流密度对镀层质量影响较大，而选择合适的喷 速使镀层具有优异的硬度和 比较小的晶粒尺寸． 关 键 词 ：脉冲喷射电沉积 ；镍镀层 ；正交方法 ；晶粒尺寸 ；显微硬度 中图分类号：TG174．441 文献标识码 ：A 文章编号 ：100O一5900(2008)O4—0048—07 optimizati0n0fJet—Electr0dep0sitedNickelC0atinginPulseCurrent DAJC “— g -弘 ， M_AO WP—gMD ’’， PAN y0行g ’。 (1．FacultyofMaterials，OptoelectronicsandPhysics-XiangtanUniversity。Xiangtan4¨1O5； 2．KeyLaboratoryofLow DimensionalMaterialsandApplicationTechnology。XiangtanUniversity。 MinistryofEducation．Xiangtan4¨105China) 【Abstr-act】 Inthispaper。thebrightnanocrystal1inenickeldepositwithstabilitywassynthesizedbypulse— jetelectrodepositionfrom sulphatesystem．Theeffectofoperatingparameters，suchascurrentdensity。jet speed，pulsefrequencyanddutycycle，onthestructureandpropertiesofnickelcoatingwasdiscussedbyor— thogonaldesign．Theresultsfrom )，-raydiffracti0n (XRD)andmicro—hardnesstestsshow thatthebest technologyprocessiscurrentdensityof15．3A／dm。，jetspeedof14OOL／h，dutycycleof40 andpulse frequencyof1OOOHz．ThenickelcoatingalsoexhIbitsbettermicro—hardnessperformanceandcomparatiVe— lysmallergrainsize． Keyw0rds： pulse．jetelectrodeposition；nickelcoating；orthog0naldesign；grainsize；microhardness 由于纳米材料具有表面效应 、小尺寸效应、量子尺寸效应和宏观量子隧道效应 ，因而产生奇异的力 学、电学、磁学、光学、热学和化学等特性 ，使其在国防、电子 、化工、冶金、航空、轻工 、医药 、