负偏压对多弧离子镀制备的TiCrN膜的影响.pdfVIP

第39卷 增刊l 稀有金属材料与工程 V01．39，Suppl．1 RAREME眦MATERIALSAND June2010 2010年 6月 ENGINEE剐时G 付志强，王成彪，李金丽，于 翔，彭志坚 (中国地质大学(北京)，北京100083) 摘要：利用扫描电子显微镜、原子力显微镜等手段研究负偏压对多弧离子镀制各的(Ti，cr)N薄膜表面缺陷、表面粗 糙度、化学成分、沉积速率及硬度的影响。结果发现：随着负偏压的增加，(Ti，Cr)N薄膜的液滴受到抑制，表面粗糙 度下降，沉积速率降低，硬度增加，但负偏压对薄膜的cr含量影响较小． 关键词：(Ti，Cr)N薄膜；多弧离子镀；负偏压；表面缺陷 中图法分类号：TB304 文献标识码：A 文章编号：1002-185X(2010)S1．316-04 随着机械工业发展，高速切削及精密切削的需求 弧电