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第 卷第 期 装 学 报
5 2 Vol.5 No.2
年 月
2013 4 Packaging Journal April 2013
doi:10.3969/j.issn .1674-7 100.20 13.02.006
溅射工艺参数对SiO /PET 包装膜结合强度的影响
2
丁泽良 孙 敏 王文韬
(湖南工业大学 机械工程学院,湖南 株洲 412007 )
摘 要:采用磁控溅射工艺制备了SiO /PET 包装膜,研究了射频功率、溅射时间、本底真空度和氩气流
2
量等工艺参数对膜结合强度的影响。结果表明:随着射频功率、氩气流量的增大和溅射时间的增加,膜的
结合强度均呈现出先增大后减小的变化趋势;本底真空度越高,薄膜的结合强度越大;所设的 个工艺参数
4
中,溅射时间对薄膜结合强度的影响最大,射频功率次之,本底真空度和氩气流量的影响最小。
关键词:磁控溅射; ; 薄膜;工艺参数;结合强度
PET SiO
2
中图分类号: ; 文献标志码: 文章编号:
TB487 O612.5 A 1674-7100(2013)02-0026-04
Effect of Process Parameters on the Adhesion Strength of SiO /PET
2
Packaging Films by Magnetron Sputtering
Ding Zeliang, Sun Min, Wang Wentao
( , , )
School of Mechanical Engineering Hunan University of Technology Zhuzhou Hunan 4 12007, China
:
Abstract SiO /PET packaging films were prepared by magnetron sputtering. The effects of sputtering power, sput-
2
tering time, vacuum degree, and argon flow on the adhesion strength of films were researched. Results showed that the
adhesion strength increased with the rise of sp
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