热处理温度对ZnO：Al薄膜性能的影响.pdfVIP

第 37卷第 12期 光 子 学 报 Vo1．37No．12 2008年 I2月 ACTA PHOTONICA SINICA December2008 热处理温度对 ZnO ：Al薄膜性能的影响 杨春秀，闰金 良 ，孙学卿，李科伟，李俊 (鲁东大学 物理与电子工程学 院，山东 烟 台 264025) 摘 要 ：利用溶胶一凝胶技术在玻璃衬底上制备 了ZnO ：Al薄膜，表征 了薄膜的结构、光透过和光 致发光特性 ，探讨 了热处理温度对 薄膜 晶体结构和光学性质 的影响．结果表 明，在热分解温度 400℃和退火温度 600。C时，ZnO ：Al薄膜的C轴择优取 向明显，透过率较高．在热处理温度 400℃情况下，激发波长 340nm 的光致发光谱 中有三个发光中心，紫外发光强度 随退火温度的升 高先升高后下降，500℃时发光强度最强．其它两个发光峰的强度随退火温度的升 高而降低甚至消 失．激发波长不同，ZnO ：Al薄膜的发光中心和强度均发生变化． 关键词 ：溶胶一凝胶法；ZnO：Al薄膜；热处理；晶体结构；光致发光 中图分类号 ：0484 文献标识码 ：A 文章编号 ：1004—4213(2008)12-2478—4 0 引言 48h备用．以康宁 1737玻璃为衬底 ，采用旋涂法制 备薄膜 ，甩胶机的转速为 3000r／min，每涂一层 ，在 氧化锌 (ZnO)是一种直接宽带隙(丘===3．36eV) 恒温干燥箱 中干燥 10min，得到凝胶薄膜．然后在 半导体 材料 ，室温 下具 有较 大 的激 子束 缚能 不同温度下热处理 1min，冷却至室温后重复 以上 (60meV)，容易实现高效率的激光发射[1j．近年来 ， 操作 ，得到所需层数，薄膜厚度为 560nm．最后薄膜 由于蓝光和紫外光等短波长发光器件和激光器的巨 在不同温度的空气气氛下退火 1h，制得 AZO薄膜 大市场需求 ，直接宽带隙半导体材料的研究越来越 样 品． 受到人们的重视．因此 ，znO薄膜在蓝紫光发光二 用丹东射线仪器公司的Y一2000型 X射线衍射 极管 、激光器及其相关光电子器件方面引起人们的 仪测量了AZO薄膜 的衍射谱 (XRD)；AZO薄膜的 关注_2j．另外 ，ZnO薄膜材料具有资源丰富、价格低 光致发光谱 (PL)是在氙灯激发下，用天津光学仪器 廉、无毒等优点，成为制备短波长光电子器件的优 良 厂的wFY一28型荧光分光光度计测量的；用北京普 材料．溶胶一凝胶方法制备 的 ZnO ：A1(AZO)透 明 析通用仪器公司的Tu 1901紫外一可见分光光度计 导电薄膜在 电学方面的研究 已取得很大 的进展，电 测量 了AZO薄膜的光透过谱． 阻率可降低到 6．2×10Qcm[。一，但对此技术制备的 2 结果与讨论 AZ()薄膜发光性质的研究报道相对较少，发光机理 尚不清楚．因此 ，对 AZO 薄膜发光特性的研究具有 2．1 结构分析 十分重要的意义． 图 1(a)为 400C热解 、不 同退火温度 的 AZ0 本文利用溶胶一凝胶方法在玻璃衬底上生长了 薄膜的X射线衍射 图谱．从 图中可见 ，所有样 品的 具有 C轴择优取向的AZO薄膜 ，研究了热分解温 衍射谱都具有六角纤锌矿结构，没有 Al和 AlO。 度和退火温度对其晶体结构和光学性能的影响． 的相存在 ，表明Al原子对 Zn原子的有效替位．不