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- 2017-09-25 发布于安徽
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* * * * * 47 * * * * * * * * * * * * 20’ * * * * * * 27 * * * * 30 * 34 * 35‘ * * * * * * * 39 * 39 * 43 April 8 * * 50 * 50 * * * 18’‘ * 2 配位滴定中的酸度控制 H4Y 中Y4- 反应,一直产生H+ lg?Y(H) 金属离子与OH-反应生成沉淀 指示剂需要一定的pH值 酸碱 buffer 单一金属离子滴定的适宜pH范围 例如: lgKBiY=27.9 lg?Y(H)≤19.9 pH≥0.7 lgKMgY=8.7 lg?Y(H)≤0.7 pH≥9.7 lgKZnY=16.5 lg?Y(H)≤8.5 pH≥4.0 (不考虑αM) lgKMY’= lgKMY-lgαY(H)≥8, 有 lgαY(H) ≤lgKMY - 8 对应的pH即为pH低, 若ΔpM=±0.2, 要求 TE≤0.1%, 则lgcsp·K’(MY)≥6, 若csp=0.01mol·L-1,则 lgK’(MY)≥8 (1) 最高允许酸度(pH低限) (2) 最低酸度(pH高限) 以不生成氢氧化物沉淀为限 对 M(OH)n (3) 最佳酸度 pMt=pMsp 时的pH 1) 控制酸度分步滴定 M+N 3
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