NiAl纳米多层膜的界面扩散与电阻率.pdfVIP

第44卷 第3期 金属学玫 Vd．44No．3 2008年3月第357-—360页ACTAMETALLURGICASINICA Mar．2008 PP．357-360 Ni／A1纳米多层膜的界面扩散与电阻率 刘明霞·) 张建民。) 徐可为t’ 1)西安交通大学金属材料强度国家重点实验室，西安710049 2)陕西师范大学物理学与信息技术学院，西安710062 摘 要 采用Fs—Ms模型研究了Ni／AI纳米多层膜的薄膜电阻率P及镜面反射系数P随周期数fl、Ni／AI调制比R和 调制波长工的演变规律，从而表征了多层膜界面扩散行为的尺度依赖性．结果表明t随着n减小，P基本恒定，多层膜界面扩散 行为对调制周期数不敏感；而随着薄膜特征尺度R和L的减小，出现P异常增加和P明显减小的变化过程．P对薄膜特征尺 度的依赖关系反映了多层膜界面扩散行为的尺寸效应，即多层膜界面非对称的互扩散行为只在低调制比与低调制波长尺度下加剧， 此时界面互促效应凸现；在高于临界调制波长和调制比的情况下，互促效应弱化，薄膜界面扩散行为不明显． 关键词 Ni／Al，纳米多层膜，电阻率，调制结构，界面扩散 中图法分类号TB43，0346．3文献标识码 A 文章编号0412—1961(2008)03—0357—04 INTERFACEDIFFUSIoNAND oF RESISTIVITY NANoMULTILAYERS Ni／Al LlU Keweill MingxiaD。ZHANG以anmin2)。XU ofMechanicalBehaviorof 710049 1)StateKeyLaboratory Materials，Xi’anJiaotongUniversity,Xi’an of andInformation Normal 710062 2)CollegePhysics Technology,ShaanxiUniversity,Xi’an Correspondent：XU Basic N伍tionalNatural NationatResearch of Supportedby ProgramChina(No．2004CB619302)and ScienceFoundation and ofChina(Nos5053106050771078) received revisedform20107-11-08 Manuscript2007-07-05，in ABSTRACTInorderto the interfacediffusion clarifysca]e—dependent behavior，theresistivity(们 andthe reflection specular coefficient(P)ofNi／AInanomultilayersdepositedbymagnetronsputtering 0,8afunctionofthe modulated modulated periodicnumber(佗)，Ni／A1ratio(R)andperiod(L)have beencharacterized