在不同衬底上制备的ZnO薄膜透射率的研究.pdfVIP

第27卷，第7期 光谱学与光谱分析 2OO7年7月 Spectros∞py蛐dSpectralAnalysis July，2007 在不同衬底上制备的ZnO薄膜透射率的研究 袁广才，徐征。，张福俊，王 勇，赵德威，许洪华 北京交通大学光电子技术研究所，发光与光信息技术教育部重点实验室，北京100044 摘要采用反应磁控溅射在不同结构衬底上生长ZnO薄膜，通过x-my衍射(Ⅺ∞)及透射光谱来分析薄 膜的成膜情况，并得出在魁毡／甜N复合基上溅射沉积的znO薄膜比单独在～N薄膜衬底的结晶质量好 且透过率也较高。而经不同的快速热退火温度验证，发现在400℃时，Zrlo薄膜的结晶化及在(002)方向上 的择优取向达到最好，并在可见光范围内的平均透过率达到88％以上。当退火温度超过450℃时，温度过 高改变了zrl0薄膜的内部结构，使其氧原子和锌原子发生了较大距离的位移，导致薄膜内部缺陷的增多， 从而存在过多的晶界，t增加了其薄膜的散射机制，使光的透过性变差，退火温度为500℃时，薄膜的平均透 过率为80％。 关键词