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- 约 49页
- 2017-09-08 发布于安徽
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摘要
摘 要
采用射频磁控共溅射技术成功地制备Au的体积百分比分别为6%、15%、
的性能测试要求,采用了不同的基片,淀积了不同厚度的薄膜。用于xRD分
析、椭偏测量的单抛Si(111)晶片和电导测试的载玻片上淀积膜厚约为450m:
了薄膜在红外一近紫外波段的透射和吸收光谱特性。紫外一可见吸收光谱分析
子体共振吸收峰:随Au含量的增加,该吸收峰逐渐红移,峰形逐渐变窄,峰
强逐渐增大;红外光谱分析表明:在1080cm。波数处出现了立方晶系Si02的
吸收峰;在460
系数≈曲线中出现一个由Au金属颗粒表面等离子体共振吸收引起的吸收峰,
峰位约为51
Au—MgF2复合纳米金属陶瓷薄膜的制备、微结构及其光电特性的研究
50%之间。
论文共分三章:第一章是绪论,概述了进行此方面研究的背景、意义和国
内外相关T作:第二章详述了Au.MgF2系列样品的制备、微结构和光电性能:
第三章是结沦。
Abstract
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