原创力文档- 1、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。。
- 2、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击 这里二次下载。
- 3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
--优秀硕士毕业论文，完美PDF格式，可在线免费浏览全文和下载,支持复制编辑,可为大学生本专业本院系本科专科大专和研究生学士硕士相关类学生提供毕业论文范文范例指导,也可为要代写发表职称论文的提供参考！！
条件下的电阻没有提高;采用硅酸钠生成原硅酸封孔后的膜层，电阻有所提高，
并且当环境偏碱性时，封孔效果较好。此外，我们还对以后进一步的实验提出
了设想。
本研 过机械拉伸实验、划痕实验以及弯曲实验对膜层与基底的结合性
，膜层未从基底上脱开，膜基结合强度大于
能进行了测试和评价。伽伸实验中
粘接剂环氧树脂的最大剪切强度 (8MPa)。弯曲实验的结果表明，膜基间有良
好的结合性能和相互配合变形的能力。热冲击实验中，膜层没有与基底脱开，
再次印证了上述结论，而且表明铝基氧化硅陶瓷膜层具有良好的抗热冲击性能，
膜/基之间有好的热变形匹配能力。少一、-
关键字:
化学气相沉积 金属表面陶瓷化 、氧化硅 膜层)性能测试
/
挤
二
.
1
了
Abstract
Anewkindofsiliconoxidicfilmwaspreparedonaluminumandaluminumalloy
withSiH4/02/N2systembyambientpressurechemicalvapordeposition(APCVD),
whichwasprocessedinanopenbell-likereactor.Thesurfacereactionwasassumed
asbelow:
Si万:+OZ Sior十H2OT
whileN2wasdispensedtodilutethegases.Theprocesswasoperatedin3800C-420
℃，withtheflowrateratioof02toSi比about1:20-30.Thesubstratesweremadeof
differentmaterialslikepureAl,Al-Mgalloy,YZLetc,whichwerepretreatedby
differentprocessbeforedeposition,likedegreasingbyorganicsolvent,chemical
process,polishandthecombination.
Afterthedeposition,thechemicalcomposition,microstructure,andthemorphology
ofthefilmwasstudiedbyXPS,TEM,XRDandSEM.TheXPSresultshowedthat
thefilmwascomposedofsiliconandoxide,whiletheratioofthetwoelementwas
1:1.61.80,belowthenormalstoichiometry.TheTEM diffractionimagewas
composedofhomocentricextensivecircles,whichindicatedamorphousstructure
Withhighresolutionobservation,itwasshowedthatthestructureofthefilmwas
mostlyamorphous,withpartlyorderedregionsdistributedonit.InaidofXRDresult
itwasconcludedthatthemicrostructureofthefilmwasamorphous/crystallitic
low-temperaturesiliconoxide.Thereweretwocharacteristicmorphologyofthefilm
inSEMobservation,theaccumulationofglobular/cystiformstructureandthe
comparablyplainsurface,thelatterofwhichwasleftbehindafter
文档评论（0）