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- 2017-09-06 发布于湖北
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解析:选AD。A项中通入少量CO2,应生成Na2CO3,而不是NaHCO3,故错误。B项中H2SiO3是难溶性酸,在离子方程式中应写化学式,正确。C、D中Na2SiO3为钠盐,溶于水,写离子形式,所以C项正确,D项错误。 1.硅的化学性质 常温下,硅的化学性质不活泼。加热时可与一些非金属及其他物质反应。 (1)常温下,除能与氟气、氢氟酸和强碱反应外,硅不与氧气、氯气、硫酸、硝酸、盐酸等其他物质发生反应。 ①与氟气反应:Si+2F2===SiF4; ②与氢氟酸反应:Si+4HF===SiF4↑+2H2↑; ③与NaOH溶液反应: Si+2NaOH+H2O===Na2SiO3+2H2↑。 要点三 单质硅的化学性质及制备 (2)加热时,硅能与氧气、氯气等反应,也能与碳反应。 2.硅的制备 硅单质是由其氧化物制得的,主要分为两个阶段: 1.Si是能与NaOH溶液反应放出H2的非金属单质,Al是能与NaOH溶液反应放出H2的金属单质,推断题中常以此点作为突破口。 特别提醒 (2008年高考广东卷改编题)硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题: (1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅,三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下: 例3 ①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式_________________________________
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