TIB耐蚀性研究.docVIP

附件1：外文资料翻译译文 基于TiB2纳米涂料的力学性能 摘要： 本文致力于运用磁控溅射的方法获得的TiB2基体纳米涂料的力学性能的研究。通过控制参数试图来提高纳米涂料的硬度和附着力，例如偏置功率和基体溅射清洁。研究发现清洁的溅射基体和沉积明显时的射频偏斜能提高涂层附着力，但是溅射基体降低涂层硬度。通过适当的控制偏置时期，能做出具有高硬度和良好的附着强度的TiB2的涂层。 关键字：12×12×3mm的块状。样品的表面经手工打磨抛光。然后将高速钢基体用丙酮和乙醇超声清洗，接着装载到沉积室。在沉积室的压力被疏散到低于5×10-4Pa时将高纯度的氩气加入到沉积室中。TiB2和Ti都是75mm直径，5mm厚度。TiB2和Ti分别在无线电频率模式和直流模式下提供动力。然后在密封状态下预溅射10分钟。工作台面在每分钟6转的转速下旋转。基体保持在离直流目标（Ti）105厘米的距离。以上所有实验都在0.65pa的恒压和总体气流量为每分钟20标准毫升的环境下进行。基体的沉积温度为400摄氏度。基体偏置射频功率是用来溅射清洗基体表面和使供基体在不同沉积级别时偏置。在多种方法下首先可以通过用200W的支流电源溅射TI靶十分钟沉积得到一个薄的（约50nm）纯钛过渡层。其次是用200W的射频溅射TiB2靶3小时。参照在沉积前和基体沉积的过程来研究溅射清洗基体产生的影响。表1总结了这个实验中的有关的样品条件。 表1.沉积条件和TiB2涂层的属性 用放射性 Cu-Ka来做X射线衍射以此测量相的组成和涂层的情况介绍。用场发射扫描电子显微镜（Jeol JSM 6340F）检查涂层的表面形态和涂层裂缝的截面。 纳米压痕技术（微电子有限技术公司，英国）用一个维氏金刚石压头进行纳米测试。 为了统计数据和可靠度，在每个实验中取5-10个加载/卸载曲线来寻找平均结果。目前的实验是在恒定在0.1 mN/s的加载/卸载速度和最大深度为50nm（深度控制模式）的条件下进行的。加载的时间极限位30秒，恒定卸载为80%的条件下热漂移矫正60秒。根据卸载曲线运用Oliver 和Pharr开发的分析技术求出硬度和模量的值[10]。 微痕测试是可选择的多样式磨损划痕的测试方法，硬度计顶部有一个锥形和一个25微米直径的圆形压头。触针以20um/s的速度在一个长度超过1000um的表面切向移动。在低于0.25mN的小负载下，初始值为300um时预扫描，用该硬度计压头以20mN/s的速度线性增加实验载荷。每个划痕实验，都沿着轨迹测量表面轮廓。首先在划痕前（AS）轨道剖面上测量表面轮廓完整的长度距离（1000um）和0.25的小负载荷；接着在刻下划痕过程中（DS），在上一个步骤后通过在预扫描长度后面增加负荷来测量表面轮廓；最后，刻下划痕后（AS），测量表面跟踪轮廓。此外，Bs和Ds的区别在于总的划痕深度包括划痕过程中的弹塑性变形和表面损伤[11]。As和Bs的区别表明了划痕测试后样品表面的划痕沟槽的剩余深度。以上的测试都是控制在27摄氏度的环境下进行的。微痕测试可以准确测得涂层失效的临界载荷（涂层附着力），摩擦系数和随深度变化的属性。 结果与讨论 3.1TiB2基纳米涂层的结构特性 图1.样品1到样品8的TiB2涂层的XRD图谱 X射线衍射表明TiB2涂层在部清洗基体和偏置时（层样品1）有一个强烈的择优取向于（001）方向的六边形的结构（图1）。在Ti夹层中也发现了的如小的山峰一般的Ti。总所周知TiB2涂层在（001）方向上相比其他方向又最高的硬度[12]，尽管基体和TiB2层的界面方向也能影响强度等级[13，14]。没有基体偏置的所有涂层中都存在（001）取向（样品1，6，7）。但是沉积前的基体溅射清洗似乎减少了这种取向的程度（样品1和样品6，样品7对比）。然而随着基体建设清洁的时间从20分钟（样品6）增加到60分钟（样品7）略微提高了（001）取向。由于已知（001）取向产生最大的硬度，预计样品1，6，7的硬度能高于稍后讨论的不同取向的其他样品。 在沉积时采用了基体偏置（在沉积吸附原子和基质过程中增加吸附原子的能量和相互作用），TiB2涂层的取向大大的改变。参考图1 ，可以发现增加偏置功率使得（001）取向的变化逐渐减少，尤其是在样品4（偏置120W）和样品5（偏置150W）取向变为（101）。这种变化可能是因为吸附原子能量的增加，也许能解释稍后讨论到的观察到硬度降低的现象。但是，根据表1 ，有人指出一个小的偏置功率（30W）能导致比较高的附着力是因为减少了涂层中德残余压应力，残余压应力能影响涂层的附着力。 图2.样品2，6，8涂层的表面形态和断裂截面的FESEM图像 用场发射扫描电子显微镜检测