离子束溅射制备晕遭圆韵缘光学薄膜的特性研究鄢.pdfVIP

物理学报摇 粤糟贼葬孕澡赠泽援杂蚤灶援摇 灾燥造援远园袁晕燥援源 渊圆园员员冤摇 园源苑愿园猿 离子束溅射制备晕遭 韵 光学薄膜的特性研究鄢 圆 缘 覮 袁文佳摇 章岳光 摇 沈伟东摇 马摇 群摇 刘摇 旭 渊浙江大学现代光学仪器国家重点实验室袁杭州摇 猿员园园圆苑冤 渊圆园员园年远月圆缘 日收到曰圆园员园年苑月圆源 日收到修改稿冤 摇 摇 研究了离子束溅射渊陨月杂冤制备的晕遭 韵 薄膜的光学特性尧应力尧薄膜微结构等特性袁系统地分析了辅助离子源 圆 缘 的离子束能量和离子束流对薄膜特性的影响援结果显示袁在辅助离子源不同参数情况下袁折射率在波长缘缘园灶皂处 为圆郾猿员园要圆郾圆苑远袁应力值为原圆愿员要原员缘圆酝孕葬援在合适的工艺参数下袁消光系数可小于员园原源 袁薄膜具有很好的表面 平整度援与用离子辅助沉积渊陨粤阅冤制备的薄膜相比袁陨月杂制备的薄膜具有更好的光学特性和薄膜微结构援 关键词院晕遭 韵 薄膜袁离子束溅射袁光学特性袁应力 圆 缘 孕粤悦杂院苑愿援圆园援原藻袁源圆援苑怨援宰糟袁愿员援源园援允蚤 的层数袁会导致成本的增加援因此袁晕遭韵 替代栽葬 韵 圆 缘 圆 缘 员郾 引 言 或栽蚤韵 作为高折射率材料袁是一个不错的选择援 电 圆 子束蒸发方法制备的 晕遭 韵 薄膜具有明显的柱状 圆 缘 离子束溅射渊蚤燥灶遭藻葬皂泽责怎贼贼藻则蚤灶早袁陨月杂冤技术是物 结构袁膜层聚集密度较低袁折射率不高袁膜层吸潮后 理气相沉积方法渊孕灾阅冤的一种袁其原理是通过一个 光学特性漂移大援 一般不被采用袁通常需要离子辅 大功率的离子源产生高能的离子束轰击靶材袁使固 助来改善其特性咱源暂援采用离子束溅射方法制备优良 体原子或分子射出到达基板表面袁来实现膜料的沉 特性的晕遭 韵 薄膜袁在国外有相关的研究咱缘要苑暂 袁国内 圆 缘 积援与传统的电子束蒸发技术相比袁离子束溅射沉 尚未见相关的报道援 积粒子的动能更大袁一般为 员园藻灾以上袁是电子束蒸 本文在实验室自制的 陨月杂 系统上袁对不同工艺 发方法的几十倍袁因此制备的薄膜十分的致密袁不 参数下制备的 晕遭 韵 薄膜的光学特性尧应力尧微结 圆 缘 易形成柱状结构袁具有损耗小袁稳定性高袁抗激光损 构等方面进行了测试研究袁并与工艺优化的离子辅 伤性能较好等优点咱员暂援 同时离子束溅射的离子束能 助沉积方法渊蚤燥灶葬泽泽蚤泽贼藻凿凿藻责燥泽蚤贼蚤燥灶袁陨粤阅冤制备的样 量和束流可精确控制袁因而工艺稳定袁可重复性好袁 品的特性进行分析对比袁结果表明袁在合适的工艺 是制备高质量光学薄膜的一种重要手段咱圆暂 袁在激光