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- 2017-09-04 发布于安徽
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非晶孵化层对高速生长微晶硅电池性能的影响.txt时尚,就是让年薪八千的人看上去像年薪十万。我们总是要求男人有孩子一样的眼神,父亲一样的能力。一分钟就可以遇见一个人,一小时喜欢上一个人,一天爱上一个人,但需要花尽一生的时间去忘记一个人。 本文由leepingpang贡献
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第29卷第8期
2008年8月
太阳能学报
Acn~ENERaAE S01.ARIs
SINlCA
V01.29.Nb.8 Allg.,2008
非晶孵化层对高速生长微晶硅电池性能的影响
韩晓艳,张晓丹,侯国付,郭群超,袁育杰,董 培,魏长春, 孙 建,薛俊明,赵 颖,耿新华
(南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,光电信息技术科学教育部重点实验室, 光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,天津300071)
摘要:采用高压高功率的甚高频等离子体增强化学气相沉积(ⅥBPEcVD)技术,以不同的反应气体总流量制备
出沉积速率大于lnII|,s、次带吸收系数(口0。“)小于2.5cm_1且具有相同晶化率的本征微晶硅薄膜,然而将其应用在微
晶硅电池中时,电池性能却有明显差异。通过对微晶硅电池的光、暗态乒y,量子效率(伽)和微区拉曼(‰
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