第六章紫外-可见吸收光谱分析法.pptVIP

第六章 紫外-可见吸收光谱分析法 第一节 紫外-可见吸收光谱分析法基础 第二节 紫外-可见分光光度计结构流程 第三节 紫外-可见吸收光谱的应用 第一节 紫外可见吸收光谱分析法基础 第一节 紫外可见吸收光谱分析法基础 第一节 紫外可见吸收光谱分析法基础 第一节 紫外可见吸收光谱分析法基础 第一节 紫外可见吸收光谱分析法基础 第一节 紫外可见吸收光谱分析法基础 第一节 紫外可见吸收光谱分析法基础 第一节 紫外可见吸收光谱分析法基础 第一节 紫外可见吸收光谱分析法基础 芳香族和杂环芳香族化合物 弱吸收带εmax ≈200， 包含精细结构。 第一节 紫外可见吸收光谱分析法基础 第一节 紫外可见吸收光谱分析法基础 第一节 紫外可见吸收光谱分析法基础 第一节 紫外可见吸收光谱分析法基础 第一节 紫外可见吸收光谱分析法基础 第一节 紫外可见吸收光谱分析法基础 第一节 紫外可见吸收光谱分析法基础 第一节 紫外可见吸收光谱分析法基础 第一节 紫外可见吸收光谱分析法基础 第一节 紫外可见吸收光谱分析法基础 第一节 紫外可见吸收光谱分析法基础 第一节 紫外可见吸收光谱分析法基础 第一节 紫外可见吸收光谱分析法基础 第一节 紫外可见吸收光谱分析法基础 第一节 紫外可见吸收光谱分析法基础 第一节 紫外可见吸收光谱分析法基础 第一节 紫外可见吸收光谱分析法基础 第一节 紫外可见吸收光谱分析法基础 第一节 紫外可见吸收光谱分析法基础 第一节 紫外可见吸收光谱分析法基础 第一节 紫外可见吸收光谱分析法基础 第一节 紫外可见吸收光谱分析法基础 第一节 紫外可见吸收光谱分析法基础 第一节 紫外可见吸收光谱分析法基础 第一节 紫外可见吸收光谱分析法基础 第一节 紫外可见吸收光谱分析法基础 第一节 紫外可见吸收光谱分析法基础 第一节 紫外可见吸收光谱分析法基础 第二节 紫外可见分光光度计结构流程 第二节 紫外可见分光光度计结构流程 第二节 紫外可见分光光度计结构流程 第二节 紫外可见分光光度计结构流程 第二节 紫外可见分光光度计结构流程 第二节 紫外可见分光光度计结构流程 第三节 紫外可见吸收光谱的应用 第三节 紫外可见吸收光谱的应用 第三节 紫外可见吸收光谱的应用 第三节 紫外可见吸收光谱的应用 第三节 紫外可见吸收光谱的应用 第三节 紫外可见吸收光谱的应用 第三节 紫外可见吸收光谱的应用 第三节 紫外可见吸收光谱的应用 第三节 紫外可见吸收光谱的应用 伍德沃德 -菲泽规则 适用于共轭烯烃(不多于四个双键)、共轭烯酮类化合物π→π*跃迁吸收峰λmax的计算。 ?基 --是由非环或六环共轭二烯母体决定的基准值： 无环、非稠环二烯母体： ? max=217 nm 异环（稠环）二烯母体： ?max=214 nm 同环（非稠环或稠环）二烯母体：?max=253 nm ni ?i : 由双键上取代基种类和个数决定的校正: (2) 环外双键 +5 nm (3) 双键上取代基： 酰基（-OCOR）0 nm 卤素（-Cl，-Br） +5 nm 烷基（-R） +5 nm 烷氧基（-OR） +6 nm 硫烷基（-SR）+30 nm 氮二烷基（-NR2） +60 nm (1) 每增加一个共轭双键 +30 nm 计算共轭多烯烃）? → ?*跃迁? max时要注意： 1. 分子中与共轭体系无关的双键不参与计算； 2. 不在双键上的取代基不进行校正； 3. 环外双键是指在某一环的环外并与该环直接相 连的双键。 共轭双键 λ= 30nm 同环二烯 λ= 253nm 环外双键 λ= 5nm 烷基取代基 λ= 5nm 烷基取代基 λ= 5nm 烷基取代基 λ= 5nm 胆甾-2,4,6-三烯 计算值： λmax = 303nm 测定值： λmax = 306nm 同环二烯 λ = 253 nm 共轭双键 λ = 30nm 环外双键 λ= 5nm 烷基取代基λ = 3×5nm 七、影响紫外-可见吸收光谱的因素 （一）、立体异构 1、顺反异构 顺式 反式 λmax=280nm εmax=13500 λmax=295nm εmax=27000 2、空间位阻 3、构象异构 4、互变异构 酮式: λmax=272nm, εmax=6 烯醇式: λmax=243nm, εmax=16000 光源 碘钨灯 氘灯 单色器 光电倍增管 数据处理和仪器控制 参比池 样品池 光源 样品池 单色器 检测器 数据处理 仪器控制 一、结构流程 （一）、光源 钨灯、卤钨