Cosi薄膜二维X射线衍射线形分析与表征，.pdfVIP

第41卷 第5期 今 局学玻 Vo1.41 No.5 2005年 5月 487-490页 ACTAMETALLURGICASINICA May2005 pp.487-490 Cosi:薄膜二维X射线衍射线形分析与表征， 姜传海 程凡雄 吴建生 (上海交通大学材料科学与工程学院高温材料及高温测试教育部重点实验室，上海200030) 摘 要 利用二维X射线衍射线形分析方法，分析了CoSi2薄膜材料的二维衍射线形.结果表明，薄膜中不同方位的衍射线形 存在明显差异，主要与材料中晶粒尺寸及显微畸变的空间分布有关，其中沿薄膜法线方向上的晶粒尺寸最大，同时该方向的显微畸 变最小. 关键词 CoSi2薄膜材料，二维X射线衍射，线形分析 中图法分类号 TG115 文献标识码 A 文章编号 0412-1961(2005)05-0487-04 ANALYSISAND CHARACTERIZATION OF 2-D X-RAY DIFFRACTIONPROFILEFORCOSi2FIL