CRTIALCN多元多层梯度膜制备及结构.pdfVIP

第 l9卷第 2期 中国有色金属学报 2009年2月 、，01．19No．2 TheChineseJournalofNonferrousM etals Feb．2009 文章编号：1004—0609(2009)02．0259—06 CrTiAICN多元多层梯度膜的制备及其结构 林松盛，代明江，朱霞高，李洪武，侯惠君，林凯生，况 敏 ，戴达煌 (广州有色金属研究院 材料表面工程研究所，广州 510651) 摘 要：采用中频反应磁控溅射、离子束辅助方法沉积 CrTiA1CN多元硬质薄膜，利用扫描电镜、俄歇电子谱、 透射电镜及x射线衍射等技术对膜层的过渡层、界面及微观结构进行研究。结果表明：沉积制备的膜层为多层梯 度过渡结构，成分深度分布及相结构分析证实，所制备的多元 多层梯度膜与所设计的基体C／r／crNc／，nAlN／ CrTiA1CN 结构相吻合；在梯度过渡中，不同层之间界面体现为渐变过渡过程；沉积制备的多元多层梯度膜硬度 高达26．31GPa，膜 ／基结合力大于80N，摩擦因数低至0．113，力学性能优 良。 关键词：CrTiA1CN薄膜；磁控溅射；离子束辅助 中图分类号：0484 文献标识码：A GrowthandmicrostructureofCrTiAICN multi-compositethinfilms LINSong—sheng，DAIMing-jiafig，ZHUXia—gao，LIHong—wu，HOUHui-jun， L1N Kai—sheng，KUANG M in，DAIDa-huang (InstituteofSurfaceEngineering，GuangzhouResearchInstiutteofNon—ferrousMetals，Ouangzhou51065I，China) Abstract：CrTiA1N multi--compositehardfilmsweredepositedbyionbeam assistedreactivemid--rfequencymagnetron sputtering．Augerelectronspectroscopy,transmissionelectronmicroscopy,X-raydiffractometryandmicrohardnesstester wereusedtoinvestigatetheinterface，interlayer,microstructureandcompositionofthemulti—compositehardfilms．The resultsshow thatthemulti-compositehardfilmscontainmultilayergradientstrucutrethatcoincideswiththedesigned structureofsubstrate／Cr／CrN ／CrTiA1N／CrTiA1CN，thecompositiondistributionchangesgraduallybetweentheinterface in interlayer．Thehard filmsexhibitgoodcomprehensiveperformancewith micro—hardnessof26．31GPa，adhesion srtengthof80N andfrictioncoefficientof0．113． Keywords：CrTiA1CN ；thinfilms；unbalancedmagnetronsputtering；ionbeam assistance 硬质薄膜材料在改善工件表面性能上备受材料界 者在 TiN硬质薄膜的基础上引入 Al、zr、Cr、V、Y 关注，是一种具有应用前景的优质表面改性技术。采 和si等合金元素[2-10】，形成新的多元薄膜体系。但一