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28卷专辑 中 国 稀 土 学 报 20lo年4月 V01．28 JoURNALOFTHECHINESERAREEARTHSOCIETY Spec．Issue Apr．2010 H在MgH2表面的吸附研究 吴广新1，张捷宇卜，李谦1，周国治1’2 (1．上海大学材料科学与工程学院，上海200072；2．北京科技大学理化系，北京100083) Elastic 擅要：采用基于密度泛函的第一性原理方法，同时结合NudgedBand方法，研究了H2分子和H原子在MgH2表面的解离 果显示，吸氢反应过程中，解离和体内扩散最可能发生在(001)表面，与H向Mg体内的扩散相比，很明显，H原子在氢化层中 的扩散更为耗时。 关键词。第一性原理；势能面；解离 中圈分类号：0647文献标识码：A文章编号：1000-4343(20lo)-0306-07 储氢合金领域内，镁基合金具有储氢量大、质 针对镁基合金的吸氢机制(图1)，可以看到，吸 量轻、价格低以及资源丰富等优点，吸引了许多研 氢时，初始阶段，反应物主要是Mg颗粒，H2分子 究者的关注【l】。但其吸放氢速度较慢、表面容易形 的解离主要发生在Mg界面处，解离后的H原子通 成致密的钝化层、氢化物稳定导致释氢温度过高等 过Mg表面向体内进行扩散；随着反应的进行， 缺点，限制了它的实用化进程『2】。其原因为在纯Mg MgH2产物层逐渐产生并包裹Mg颗粒，此时H2分 吸附氢的初始阶段，限制性环节是H2分子的化学吸 子的解离主要发生在MgH2表面，解离后的H原子 附而非H原子的扩散【3】；随着H原子的扩散， 通过MgH2表面扩散进入体内；随着MgH2产物层 Mg(0001)表面形成了氢化物层，限制了H原子的进的增厚，此时H2分子的解离仍然主要发生在MgH2 一步扩散，成为新的速率限制环节【2】。 表面，解离后的H原子通过较厚的MgH2表面扩散 目前，人们针对Mg的吸放氢过程进行了大量 进入体内；最终形成完全的MgH2产物。因此对于 的实验和理论研究。其中，Plummer等附】采用能量微观计算而言，需要考虑两个计算模型，第一个为 损失谱和热力学脱附光谱研究了H2分子、H原子与 吸附初期，H2分子在Mg表面的解离，及H原子后 Mg的相互作用。Topler等【6l利用中予衍射手段发现续的扩散；第二个为吸附中后期，H2分子在MgH2 350 表面的解离及H原子后续的扩散。 K下MgH2中H原子的扩散速率比纯Mg中H 原子的扩散速率小3个数量级。Norskov等【．7】采用从 结合前述的文献综述和吸氢反应机制，我们发 头计算的方法研究了H2分子在Mg(0001)表面的吸现：H2分子在MgH2表面解离吸附方面的研究未见 报道，而吸氢后期对于整个反应的影响较大，因此 附和解离后发现表面存在化学吸附。Vegge等181对 H2分子的解离和H原子的扩散进行了详细的研究。 此部分的研究具有现实意义。在本文中，采用基于 Johansson掣州采用离子散射光谱、x射线光电谱密度泛函的第一性原理方法，通过考察H2分子在 和升温化学吸附仪等手段研究了H2在Mg清洁和 MgH2表面的吸附性质，探讨Mg基储氢材料吸放 掺杂表面的解离吸附过程。本人在前期工作中flo】， 氢过程中可能的限制性环节，并为进一步的实验提 供相应的微观机理和理论数据。 完整的获得了H在洁净Mg(0001)表面的解离、扩 散过程。 收藕日期：2009—10-22；●订日期：2009一11-02 资助 作者俺介：吴广新。男，博士；研究方向：储氢材料 ·■讯联系人(F-mail：zjy6162@staff．shu．edu．cn) 构型，厚度为084 1模型和方法