Preparation of Silicon Wafers教程.pdfVIP

下载本文档

5
0
约7.17千字
约 27页
2017-09-01 发布于福建
举报
版权申诉

Preparation of Silicon Wafers教程.pdf

1、本文档共27页，可阅读全部内容。
2、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。
3、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击这里二次下载。
4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
5、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
6、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
7、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
8、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

Preparation of Silicon Wafers Crystal Growth 長晶 Granular 顆粒( ) polysilicon in melt phase Raw Material: 融化 (polysilicon) 原始材料 Chunk (塊狀) polysilicon in melt phase Seed 晶種( ) and Ingot (晶錠) Crystal Pulling 拉晶 Finished Ingot 晶錠完成 Crystal trimming (修整) and 修整與研磨 diameter grind (研磨) Flat grinding 平口端之研磨 Zone refining Edge Rounding (變圓) Slicing (切片) Lapping (細研磨) Lapping Wafer Etching (蝕刻) Polishing (拋光) Polishing (拋光) Epitaxial Growth 磊晶 Epitaxial Layer 磊晶層( ) Epitaxial Growth 磊晶 Epitaxial Layer Si 99.9999999999% Substrate Si 99.9999999% Wafer Identifying Flats Methods for Epitaxial (磊晶) Growth 磊晶的方法 1. Chemical Vapor Deposition (CVD;化學氣相沈積法) ： silicon based, germanium based, 2. Molecular Beam Epitaxy (MBE; 分子磊晶法) ： GaAs based, Chemical Vapor Deposition (CVD) SiH4 (1 )Gas transport gas gas