《工业硅化学分析方法碳含量的测定红外吸收法》（讨论稿.docVIP

工业硅化学分析方法 第五部分 杂质元素含量的测定 X射线荧光光谱法（稿）昆明冶金研究院 2013--8 《工业硅化学分析方法 第五部分 杂质元素含量的测定 X射线荧光光谱法》 国家标准送审稿编制说明 工作简况 目的和意义 工业硅是现代工业尤其是高科技产业必不可少的材料，被广泛应用于化工、冶金、电子信息、机械制造、航空航天、船舶制造、能源开发等各工业领域，近十多年来，硅产业在原料精选、工艺、设备、精炼等方面不断提升和进步，工业硅产品由原来大部分作为冶金用硅发展到能满足多方面需求的化学用硅，大量用于有机硅、半导体材料及电子等诸多行业。尤其是近年来随着光伏产业的高速发展，工业硅的需求量日益增大，对其中的杂质含量也提出了更多、更高的要求，同时也对工业硅的分析检测也提出了新的要求。 现行国家标准GB/T 14849《工业硅化学分析方法》前5个部分中分别规定了铁、铝、钙、钛、锰、镍六个元素的测定方法，而没有铜、磷、镁、铬、钒、钴元素的分析方法，满足不了行业发展的检测需求。因此，制定科学完善的分析标准，在生产、贸易过程中对杂质元素进行规范的检测和有效的质量控制，对硅产业的发展有积极的促进作用和长远的现实意义。 任务来源 2011年12月，昆明冶金研究院提出《工业硅化学分析方法：第五部分：杂质元素含量的测定：X射线荧光光谱法》国家标准项目立项建议书，由国家标准化管理委员将其列入2012年度国家标准制定项目计划，2012年12月，全国有色金属标准化技术委员会根据国标委综合 [ 2012 ] 92号文正式下达了计划号为2012195T- 610《工业硅化学分析方法 第5部分：杂质元素含量的测定：X射线荧光光谱法》国家标准的起草任务，确定由昆明冶金研究院、中国铝业股份有限公司山东分公司，云南永昌硅业股份有限公司等单位负责本标准的修订工作，任务完成时间为2013年1月～2014年12月。 起草单位 加压湿法冶金技术应用研究创新团队 本院分析测试部现有在职人员45人，其中有教授级高工3人、高级工程师22人、工程师15人。内部研究开发的分析方法汇编成方法集共23部，具有优良的科研传统和较强的研究能力；配备了目前世界上最为高端的诸多精密分析仪器，拥有ICP-AES、ICP-MS、GD-MS（辉光放电质谱）、X射线荧光光谱仪、X射线衍射仪、MLA（矿物解离度定量测定仪）、电子探针、光电直读光谱、原子荧光、原子吸收、高频红外碳硫分析仪等多套设备。 1.4 主要工作过程 昆明冶金研究院接受任务后，成立了《工业硅化学分析方法 第5部分 杂质元素含量的测定 X射线荧光光谱法》国家标准编制组，编制组根据国内多家工业硅检测机构以及工业硅厂家的X射线荧光光谱法测定杂质元素情况，结合《工业硅》修订草案制定了讨论稿。 2012年9月在贵阳召开了有色金属标准讨论会上对讨论稿进行充分讨论，针对讨论稿存在的问题，确定了编制组成员的任务分工和实验计划。组织专业技术人员做了大量工业硅中杂质元素含量的X射线荧光光谱法的实验工作，结合实际情况和具体实验结果，对拟制定的标准所涉及的内容、范围、适用性、可操作性、科学性等内容进行了认真研讨、论证和改进。 2013年4月，根据前期实验情况和实验结果不断改进，又对标准文本的内容作了进一步的完善，形成征求意见稿。编写原则和标准 2.1 编写原则 本标准是在昆明冶金研究院的操作规程基础上，结合长期的生产实践情况来制定编写的，主要针对应用单位对工业硅产品中杂质元素含量的检测需求为依据进行编制。本标准起草过程中遵循如下原则： 一是普遍适用性原则，根据国内工业硅生产和使用企业的具体情况，力求做到标准的合理性与实用性，标准规定的检测方法中实验仪器、试剂易购买，实验条件易达到，检测范围能普遍满足各行业对杂质含量的要求。 二是先进性和科学性的原则，实验结果具有可靠性，标准规定的检测方法在同一实验室检测结果应具有长期稳定性，不同实验室之间的检测结果具有一致性，标准能积极有效的规范工业硅中杂质含量的分析方法，也能满足国内外进出口贸易市场以及不同行业对工业硅杂质含量分析的需求。 标准在格式上严格按照GB/T1.1-2009《标准化工作导则 第1部分：标准的结构和编写规则》和GB/T20001.4-2001《标准编写规则 第4部分 化学分析方法》的要求进行编写。 2.2 确定标准主要内容本标准题目延续前一版标准题目，仍为《工业硅化学分析方法 第5部分 杂质元素含量的测定 X射线荧光光谱法》，此题目完全概括标准主旨和中心。 3.1 标准题目的确定 本标准题目延续前一版标准题目，仍为《工业硅化学分析方法 第五部分 杂质元素含量的测定 X射线荧光光谱法 3.2 范围 本标准规定了采用X射线荧光光谱法测定工业硅中杂质元素含量的分析检测方法。适用于工