激光辐照下GaAs表面腐蚀液滴自然浸润过程及其边缘刻蚀特性.pdfVIP

维普资讯 58 蘩怠 蚀液滴 器 傣 ， 激光辐照下 GaAs表面腐蚀液滴 自然浸润过程及其边缘刻蚀特性 田 骁，叶玉堂，刘 霖，陈镇龙，罗 颖，王昱琳 (电子科技大学光电信息学院，四川 成都 610054) 提要：研究了激光辐照下 GaAs表面酸性腐蚀液滴的浸润及其腐蚀特性，实验获得了激光辐照下H2so4一H202液滴在 GaAs表面的浸润过程 以及液滴边缘方位、晶体取向等差异对GaAs半导体表面刻蚀效果的影响，得到了有价值的结论。实验结果表明，腐蚀液液滴在GaAs表面随着 时间向外扩散，腐蚀现象由中心向四周逐渐减弱，并在边缘部分出现不完全腐蚀现象；通过对同一液滴的不同位置的边缘进行观察发现液滴边 缘的腐蚀图样不完全相同，由于晶体的各向异性使腐蚀图样具有明显的方向性，此结论对半导体器件的加工工艺起着重要的理论补充作用。 关键词：GaAs；浸润孩0蚀；边缘特性