原子纳米光刻中双层光学掩膜的实现方法研究.pdfVIP

第43卷第7期 红外与激光工程 2014年 7月 Vo1．43NO．7 InrfaredandLaserEn~ineerin Ju1．2014 原子纳米光刻中双层光学掩膜的实现方法研究 陈 晟，马 艳 ，张萍萍，王建波，邓 晓，肖盛炜，马 蕊，李同保 (同济大学 物理系，上海 200092) 摘 要：利用原子光刻的方法制备纳米结构的光栅 已经成为了一种较为成熟的工艺。通过原子与激 光驻波场的相互作用，利用原子 自生在势能场 中的偶极力对原子的密度进行调制 ，从而得到所需要的 光栅结构。利用此种工艺所制备的光栅相对于传统工艺来说具有精度高，光栅常数直接溯源于原子能 级。希望能够通过对激光的改 良来提升原子沉积结果。通过双层驻波场来提高原子沉积质量 已经被多 次提到。实验 中利用几何光学的方法实现 了所需要的新型激光驻波场。并对其汇聚，相干等特性进行 了研究，取得 了较为满意的结果。为利用双层驻波场来沉积原子打下了基础。 关键词：原子光刻； 光学掩膜 ； 异形光束； 几何光学 中图分类号 ：TN405 文献标志码 ：A 文章编号：1007—2276(2014)07—2070—04 Production ofdouble-layerlightmask in atom nano·lithography Chen Sheng，M aYan，Zhang Pingping，W angJianbo，DengXiao，Xiao Shengwei，MaRui，LiTongbao (DepartmentofPhysics，TongjiUniversity，Shanghai200092，China) Abstract：Taking advantageofatom lithography to produce hte nano levelgrating hasbecomeamature processtechnology in nano fabrication．When hte atomspassthrough a standing wave field，using the dipoleforce on hte atomsisanew technology to build htenanostructures．The grating obtained by htis mehtodhasitsspecialcharacteristic．Itsperiod isdirectly related tohtewavelenght oflaserand thiscan be reviewed to hte transition frequency ofhte atom ． Itishoped to use a new kind oflightmask to improvehtedepositionquality．Using double—layerlightmaskhavebeen mentioned forseveraltimes．In hteexperiment，geometricalopticswereusedtoachievewhatweneed．A prism wasdesignedtogenerate thisspecialbeam ．From hte experimentresult，hte beam iswellgenerated．Thiskind ofbema Cna be easilyused inhtesubsequentexperiment． Keywords：atom lihtography； lightmask； special—shapedbeam ； geometricaloptics 收稿 日期 ：2013—11—20； 修 订 日期 ：2013—12—23 基金项 目：国家 自然科学基金91123022)；上海纳米专项(0852nm070