纳米级超精密抛光机智能控制系统研究.pdfVIP

2002 年(第十届)全国机床专业学术会议 纳米级超精密抛光机智能控制系统的研究 赵文宏 袁巨龙 吕冰海 常敏 邢彤 (浙江工业大学，浙江杭州 310014) 摘要：本文介绍了纳米级超精密平面抛光机的工作原理，对其实现方法进行了研究， 分析了智能控制系统的组成，提出并建立了基于专家控制系统的解决方案。采用 Windows CE 软件平台，图形化界面功能指示，以及采用高可靠性的实时操作系统、超级数 模混合 RISC 嵌入式处理器、高精度光栅传感器、无级调速、无刷直流电机驱动等技术，实 现对抛光机的智能控制。 关键字：超精密抛光 平面抛光 专家控制 嵌入式处理器 0 前言 功能陶瓷的超精密加工技术是一门新兴的综合性加工技术。它集成了现代机械、光学、 电子、计算机、测量及材料等先进技术，已成为国家科学技术发展水平的重要标志。为了获 得各种元器件及装备的高性能，要求元件和零件的加工精度越来越高，有的甚至要求达到纳 米级或更高的加工精度和无损伤的表面加工质量。 目前只有日本和美国能够生产非智能型的纳米级超精密平面抛光机，且价格昂贵。为了 减少人为因素的影响，并保证加工质量及一致性，提高加工效率，迫切需要研制一种具有智 能控制系统的纳米级超精密平面抛光机。纳米级超精密平面抛光机智能控制系统的研制成 功，将对超精密加工装备智能化和国产化，以及提高我国电子元件产品的加工水平具有重要 意义。 1 纳米级超精密抛光机的工作原理 高性能元器件要求具有很高的尺寸精度，低的表面粗糙度和表面缺陷。目前基本上都采 用超精密抛光作为最后的加工工序来达到这些要求。超精密抛光的加工环境、温度、加工压 力、研磨速度抛光液供给以及抛光工具等情况都对抛光精度有着直接影响。 为了进一步提高加工质量和加工效率以及一致性，我们在原有修整环型超精密研磨机的 基础上研制一种智能型纳米级超精密平面抛光机。如图 1 所示，它采用了在加工中可在线修 整抛光盘平面度的修整环系统。在设计原理上，使工件加工表面各点相对于抛光盘的线速度 相等，且工件表面各点运动轨迹不重复。同时采用标准砝码加载实现抛光压力的稳定性，加 载简便、精确；采用偏心载荷，修正工件的平行度，保证工件获得极高的平面度。 为真正实现加工余量稳定地以纳米级水平去除，对控制系统提出的主要要求有：（1）为 保证加工余量去除的一致性，必须将抛光盘总转数控制在一定的精度范围内（≤±1º），以 浙江省自然科学基金（501097 ，501096 ）和浙江省自然科学基金青年科技人才培养项目资助 2002 年(第十届)全国机床专业学术会议 保证加工路径 （去除余量与加工路径成正比）的总误差，使工件加工总误差在 1nm以内；（2 ） 为保证工件获得完美的加工表面质量，必须采用合理的 “起动—提速—加工—修整—停止” 的抛光盘速度控制模式，避免加工速度变化过大对工件造成的冲击损伤，从而获得完美的加 工质量和 2nm以下（最高可达 0.2nm以下）的表面粗糙度；（3）为减少加工过程中所产生的 热量对工件及机床本身的不利影响，必须控制加工环境的温度，具备高精度的抛光液温度检 测补偿控制；（4 ）为排除操作人员人为因素对加工质量的影响，必须采用最佳加工工艺参数 专家数据库系统控制设备的操作，进而保证高水平的稳定一致的加工质量。 图 1 修正环型抛光机原理示意图 1.载物孔 2.环状工作面抛光盘 3.滚动轮 4.修正环保持架（可调）5.修正环 6.载物环 2 实现纳米级超精密抛光机智能控制的关键因素及实现方案 为兼顾抛光效率及针对不同加工晶片材质的加工机理，抛光机的各项运作参数都有所不 同，对控制系统提出了很高的技术要求。通过以上分析，其中关键性因素有： （1）磨盘停止精确定位； （2）磨盘稳态运行平稳度； （3）抛光液温度的实时检测和流量的模糊控制； （4）具有学习推理功能的专家智能子系统的实现。 针对以上技术难点提出实现方案如下： 采用 Windows CE 软件平台，图形化界面功能指示，以及采用高可靠性的实时操作系统、 超级数模混合 RISC 嵌入式处理器、高精度