光学邻近效应的产生机理分析.pdfVIP

维普资讯 《激光杂志：∞。年第：卷第期 A。 ， 。 ．。o。 43 光学邻近效应的产生机理分析 一 石瑞薨 郭永康 曾阳素 黄晓阳 7 ——— ‘ 一 (四川大学轴理系．成都 610064) (中国科学院微屯子中心) oeE)产生的机理．模拟了掩横 渤 4 rR 孵 曲 gYa~gm № Xiooya,~： (Ph Dept．sch删1un 内 ，。-e【u 610064) (Mie~ elctroieRe— hCer． ) ^ t ：Based∞ partial~herentimpingthe~5-．andnonli~ ~1rerch~ terisfi~of 。 sy forthe~rialin~ge． theph mechanism 。nOptical Imi竹Eff~tThe mub 帅 ima~ngpanm ofthedifferent】… ewidtha gi唧 r卸 icuqgeq~lity． 岫 ● }0PE C ．m~utoin．rxxdira~rfilter 随着光刻技术的不断发展，光刻线条的尺寸越来越窄，当 传递是一十非线性过程，没有适 当的系统评价函数 ．对像质的 曝光线条的特征尺寸接近强光系统的理论分辨扳限时．空同像 分析较为困难，为了便于分析，部分相干成像的强度传递可视 将产生明显的畸变 ，即发生所谓的光学邻近效应 (OPE) ，导 为一十非线性滤波过程，设透过掩模的物的 度分布为 L( ， 致光刻图形质量严重下降。事实上，不仅光学成像过程衍射造 YO)，其频谱为G0(ff)=ⅡL( ， )exp[ 2 (“ ) 成图形的邻近畸变不能被忽视，曝光、显影、刻蚀等加工过程对 出’0出．u，{嚣频谱也即无衍射受限的理想像频漕，争H(“．)= 光刻质量的影响也难以忽视，即加工过程也存在类似的邻近效 若，．f…1为系统对诚收成像过程的滤波函数．则有Gi(。) 应问胚 (Proce~ Proximi~ Effect，简称 PPE)… ．因此，广义来 讲 ，光学邻近校正 (opt ProximityCorrection，简称 OPC或 =Go( )H(“．)。这里 H(“．口)与非丰¨干成像过程的光 ovc／ppc) l3。4 是通过掩摸图形优化等光学手段减少整个 学传递函数有很大区别，因为诙函数不仅与成像系统有关 ．而 光封过程图形畸变 的一种方法，即通过光学波前加工手段最终 且依赖于掩模的结掏和照明源函数。这说明．光刻成像系统是 达到提高集成电路 的光刻制作质量的目的。 一 个非线性滤渡系统。由于部分相干成像过程 中的非线性窄 按照渡前工程的观点．为获得 良好的光劐教果．应对设计 问滤渡，像强度频谱的能量分布和位相分布相对理想像频谱有 掩模进行预畸变以改善像面光场分布实现光学邻近校正，而由 一 定畸变，并最终大大降低 成像质量 ．即引发光学邻近效应。 于OFC的 目的主要是减少空间像的邻近畸变，故空间成像及 由于像强度的位相频谱较难分析，下面我们将主要结台其