铝合金微弧氧化工艺的研究概况.docVIP

铝合金微弧氧化工艺研究概况 高成，徐晋勇，叶仿拥，蒙永祥 (1．桂林电子科技大学机电工程学院，广西桂林541004；2．广西右江矿务局，广西田东531501) 摘要：概述了铝合金微弧氧化技术原理和陶瓷膜特点，分析了电流密度、电压、脉冲频率、脉冲占空比和电解液参数对制备铝合金微弧氧化陶瓷膜的影响，介绍了铝合金微弧氧化的机理和工业应用现状，指出了铝合金微弧氧化技术的研究方向。 关键词：铝合金；微弧氧化；陶瓷膜；工艺参数 1 前言 微弧氧化技术是在普通阳极氧化的基础上，利用弧光放电增强并激活在阳极上发生的反应，从而在金属材料表面原位形成优质陶瓷膜的方法，是铝、镁、钛等轻金属表面强化处理领域的研究热点之一[1]。该技术工艺过程容易控制，操作简单，处理效率高，对环境无污染，形成的陶瓷膜具有优异的耐磨和耐蚀性能，以及较高的显微硬度和绝缘电阻[2]。铝合金微弧氧化技术大幅增强了材料的表面性能，特别适合于在高速和高接触应力环境下作为摩擦副部件的使用，在航天、航空、汽车、机械等行业中具有广阔的应用前景。 2 铝合金微弧氧化技术原理及陶瓷膜特点 微弧氧化技术是在传统阳极氧化技术上发展起来的，其本质特征是工作电压较高(超出了阳极氧化的电压范围)，从而使反应进入到一个等离子体化学和电化学综合反应的过程[3]。在这个过程中，当施加的电压超过临界击穿电压时，铝合金表面被击穿，出现大量游动的弧点，