濺鍍功率與退火溫度對ZnOAl透明導電膜的特性之影響.docVIP

濺鍍功率與退火溫度對ZnO:Al透明導電膜的特性之影響 The effect of power and annealing temperatures on the properties of transparent conductive ZnO:Al thin films prepared by DC sputtering 研究生：黃祿翔 Huang, Lu-Hsiang 指導教授：熊京民 Hsiung, Chin-Min 楊茹媛 Yang, Ru-Yuan 【摘要】 本研究利用直流(DC)濺鍍法沉積氧化鋅摻鋁 (AZO) 透明導電薄膜，針對合金靶材功率作為製程變數，並對所製備的AZO薄膜在氮氣中進行不同溫度（100~300℃）的退火處理，以探討AZO薄膜之結構、表面形態、光學特性與導電性質之變化。其中，本實驗使用Corning EAGLE XG glass 作為基板，且於沉積薄膜時，基板溫度與薄膜厚度分別固定於100 ℃以及50 nm。在薄膜的物性研究方面，藉由SEM和AFM觀察薄膜之微結構變化與表面粗糙度；在光學性質方面，藉由紫外線可見光光譜儀，分析在不同退火條件處理所後薄膜之光學穿透率與反射率；在電學性質方面，使用霍爾量測其載子濃度與電子遷移率；在光學性質方面，藉由紫外線可見光光譜儀，分析在不同退火