V-Ti催化剂表面结构的研究.pdfVIP

V-Ti催化剂表面结构的研究 赵曦王焕茹张颖 (北京化工研究院分析研究室，北京100013) 【摘要】 通过X射线光电子能谱、X射线衍射等表征手段研究了V砸催化剂中V20s在载体中的分散状 态，结果表明，催化剂中部分v205以单层或亚单层分散的形式存在，部分v205形成晶粒分散在载 体颗粒中间；测定了表面分散层的厚度，并对单层分散阈值和V2晚的表面分布密度进行了计算。 [关键词】钒．钛催化剂；单层分散；X射线光电子能谱；X射线衍射 【中图分类号】TO 【文献标识码】A v．n催化剂作为一种氧化还原催化剂广泛应用于邻二甲苯制苯酐等选择性氧化的工艺过程中。 对V坷i催化剂的结构和机理方面研究的焦点近几年集中在以下几个方面：(1)v205的单层分散；(2) V205和Ti02之间的相互作用；(3)v元素在催化剂中的化学状态【l】。 单层分散是指一种化合物以二维状态覆盖在另一种化合物载体表面的现象。在许多催化剂中， 最佳催化剂活性组分含量往往和最大单层分散量有密切关系，因此对于催化剂研究来说，表面分散 状态的测定非常有意义【2】。 固体化合物在载体上的