磁流变效应即效微磨头平面抛光研究.pdfVIP

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  • 2017-08-31 发布于安徽
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磁流变效应即效微磨头平面抛光研究.pdf

磁流变效应即效微磨头平面抛光研究 杨勇 阎秋生路家斌刘毅孔令叶 广东工业大学机电j二程学院广州510006 摘要:利州磁流变效应即效微磨头对光学玻璃进行了抛光试验,研究了磁感应强度、加工问隙、工具转速、加工时 间等参数对工件表睡粗糙度值的影响。研究发现,磁感应强度、加上间隙、工具转速等对抛光质量的影响规律相似,都是 随着参数值的增大,表面根糙度争现先减小、后增大的趋势;但加工时间的影响略有不同,随着加工时间的延长,表面粗 糙度迅速下降,然后趋丁.稳定。研究结果表明,合适的参数选择足提高磁流变效应即效微磨头抛光质鬣的关键。 关键词:磁流变效应;微磨头;抛光;表面粗糙度 中图分类号:TG356.28;THl6l ResearchonPlane Instantaneous PolishingUsing Tiny-Grinding WheelBasedon Effect Magnetorheological

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