倾斜入射条件下衬底对金属网栅屏蔽特性影响.pdfVIP

第 14 卷 　第 3 期 　 光学 精密工程 Vol . 14 　No . 3 2006 年 6 月 　　 　　　　　　　　　Op tics and Preci sion Engineering 　　　　　　　　　　 J un . 2006 ( ) 文章编号 　1004924X 2006 倾斜入射条件下衬底对金属网栅屏蔽特性的影响 陆振刚 ,谭久彬 ,刘永猛 ,刘 　俭 ,张 　慧 ( 哈尔滨工业大学 超精密光电仪器工程研究所 ,黑龙江 哈尔滨 15000 1) 摘要 :提出了双层膜系分析方法 ,该方法采用独立网栅等效薄膜模型 ,将网栅对衬底干涉的影响引入分析 ,克服了 Kohin 方法仅考虑衬底干涉的不精确性 ,并避免了其分析独立网栅的透波率公式在高频和大入射角时存在的不准确性 。用紫 μ μ 外光刻在石英衬底上制备了周期为 320 m ,线宽为 4 . 5 m 的网栅 ,测得 S 波 30°入射时 12 ～18 GHz 的屏蔽效率大于 16 dB ,略低于理论值但变化趋势一致 ,证实了双层膜法的有效性 。进而分析衬底影响表明:入射为 S 波及小于衬底布儒 斯特角 θ 的 P 波时屏蔽效率降低, 而入射为大于 θ 的 P 波时屏蔽效率反常增加 ;屏蔽效率变化最大值随入射角变化 ; B B 优化衬底厚度可在不影响网栅透光能力的同时获得最佳屏蔽效果 。 关 　键 　词 : 电磁屏蔽 ;透明导电膜 ;衬底 ;倾斜入射 ;金属网栅 中图分类号 : TN7 13 ;O484 . 1 　　文献标识码 :A Influence of substrate on shiel ding effectiveness of metall ic mesh under obl ique incidence condition L U Zhengan g , TAN J iubin , L IU Yon gmeng , L IU J ian , ZHAN G Hui ( I ns t i t ute of Ul t rap recis ion Op toelect ronic I ns t r um ent E ng i nee ri ng , ) H a rbi n I ns t i t ute of Tech nol og y , H a rbi n 15000 1 , Chi na Abstract : A double film met ho d wa s emp loyed to accurat ely e stimat e t he influence of sub st rat e o n shielding eff ectivene ss. By u sing t he equivalent film mo del of f reest an ding me sh an d p rep aring a t hin me sh film on it s sub st rat e , t hi s p ap er con sider s it s influence on sub st rat e int erference to overco me t he uncert aint y of Konin ’s met ho d t hat merely con sider s t he int erf erence of t