衬底材料对Nikon光刻机对准系统影响.docVIP

衬底材料对光刻机对准精度的影响研究 何峰，吴志明，王军，袁凯，蒋亚东 （电子科技大学 电子薄膜与集成器件国家重点实验室，四川成都，610054） 摘要：随着光刻机技术的发展，特征线宽尺寸减少到纳米级，对光刻机对准系统提出了更高的对准精度的性能指标。对准系统是光刻机最精密复杂的部分，不同的工艺条件，尤其是不同的衬底材料对对准系统的精度都会产生显著影响。阐述了Nikon步进投影光刻机的二种对准方式：激光步进对准（LSA）和场像对准方式（FIA）。并讨论了铝与氮化硅衬底材料对二种对准方式的精度影响，为工业应用提供一定的指导作用。 关键词：对准系统；衬底材料；对准精度；步进投影光刻机 中图分类号：TN305 文献标识码：A Research on influences of substrate material on stepper alignment accuracy HE Feng, WU Zhiming, WANG Jun, YUAN Kai, JIANG Yadong (State Key Laboratory of Electronic Thin Films and Integrated Devices, University of Electronic Science and Technology of China, Chengdu, China, 610054) Abstract：With the development of lithography technology, feature size is reduced to nano-scale, a higher alignment accuracy of performance is needed for lithography. Alignment system is the most sophisticated part of stepper, and different process condition, in particular different substrate materials have a significant impact on the alignment accuracy. The alignment system of Nikon stepper is introduced: both laser stepper alignment (LSA) and field image alignment (FIA). The affect of aluminum and silicon nitride substrate materials on alignment accuracy is discussed and the results provide a certain guiding function for the practical application. Keywords: alignment system; substrate materials; alignment accuracy; steppers 引言 光刻技术是大规模集成电路制造技术和微光学、微机械技术的先导和基础，它决定了集成电路的集成度。而光刻机对准系统的精度控制决定了集成电路的复杂度和功能密度。在制造过程中，一个完整的芯片一般都要经过十几到二十几次的光刻，在多次光刻中，除了第一次光刻以外，其余层次的光刻在曝光前都要将该层次的图形与以前层次留下的图形对准，因此，对准精度将直接影响产品质量，对准速度和效率将影响产品的生产效率光刻机的对准系统从信号检测方式上分为相位检测和光强检测两大类，光强检测方式又分为明场和暗场两种方式。国外著名的光刻机生产商(Nikon，Canon，ASML)的对准系统都是采用多种对准方式，来提高对准精度。目前，国内很多半导体企业和高校采用Nikon公司的NSR系列的光刻机，了解其各种对准方式的原理，根据特定的工艺条件选择不同的对准方式，达到最优化的对准效果Nikon对准系统 Nikon步进投影光刻机的对准过程不是硅片上的图形与掩膜版上的图形直接对准来完成，确定掩膜版的位置是一个独立的过程，确定硅片的位置又是另一个独立的过程。其对准原理是，在硅片曝光台上有一基准标记，可以把它看作是坐标系的原点，所有其它的位置都相对该点来确定的。分别将掩膜版和硅片与该基准标记对准就可确定它们的位置。在确定了两者的位置后，掩膜版上的图形转移到硅片上就完成了对准过程。 Nikon对准系统主要包括掩膜版对准系统、硅片对准系统。由于掩膜版对准系统受工艺或其他影响较小，主要是系统误差，这里不做详细讨论。而硅片对准系统对对准精度的影响较大，目前Nikon N