喷射电沉积枝晶生长数值模拟及实验研究.pdfVIP

2009年9月 电镀 与 精 饰 第31卷第9期(总198期) ·1· 文章编号：1001—3849(2009)09—0001—04 喷射 电沉积枝晶生长数值模拟及实验研究 陈劲松 ， 黄 因慧 ， 王桂峰 ， 乔 斌 ， 杨建明 (1．淮海工学院 机械工程学院，江苏 连云港 222005；2．南京航空航天大学 机 电学院，江苏 南京 210016) 摘要 ：介绍了喷射 电沉积的基本原理 ，并根据喷射 电沉积原理对凝聚扩散模型进行 了改进，对电铸 过程 中的二维枝晶生长过程进行了数值模拟，并进行了实验验证 。结果表 明，利用改进的凝聚扩散 模型模拟得到的粒子簇与实验获得的枝晶相似度较高，用该模型来说 明枝 晶的生长规律是真实的、 可靠的。随着粒子相对运动速度的加快，得到的粒子簇 的形貌 由疏松分枝逐步发展为致密结构；在 不同的粒子数 目模拟枝晶图中表现出了明显的屏蔽效应；结合概率越小，粒子越容易进入 内层生长 点，使枝晶结构较致密；喷射高度对枝晶形貌的影响没有明显规律，波动性很强。 关 键 词：喷射 电沉积；枝 晶生长；凝聚扩散模型 ；数值模拟 中图分类号：TG174．444 文献标识码 ：A Numericalsimulation and experimentalresearch ongrowth ofdendriticcrystalsinjetelectr0dep0siti0n CHENjin—song，HUANGYin—hui，WANGGui—feng， QIAOBing，YANGJian—ming (1．CollegeofMechanicalEngineering，HuaihaiInstituteofTechnology，Lianyungang 222005，China； 2．CollegeofMechanicalandEngineering．NanjingUniversityofAeronauticsAstronautics．Nanjing 210016，China) Abstract：Thefundamentalprincipleofjetelectrodep0siti0nisintroducedandamodifieddiffusionlimited aggregation(DLA)modelisproposedaccordingtothejetelectr0deposili0ntheory．Thegrowthprocessof dendriticcrystalswassimulatedandtherelatedexperimentswerecarried outtoverifythesimulationre— suhs．Theresultsshow thattheDLA modeliseffectivetoexplainthegrowthofdendriticstructure．W ith theincreaseoftheparticles relativemotion velocity，themicrostructureoftheparticleclusterchanges from loosestructuretocompactone．Thesimulationswith differentparticlenumberarecharacterizedby differentshieldingeffects．Particleclusterbecomesmorecompactwiththelowercoalescentprobabilityin theDLA modewheretheparticlesmoreeasilyenterintotheinnersturcture．Ithasnotexplicitrelation— shipbetweenjerringheightanddendriticcrystalsmicrosturetures． Keywords：jetelectrodep0sition；dendriticcrystalsgrowth；diffusionlimitedaggregationmodel；numeri- ca】sjmulatio 收稿 日期 ：2009—03—29 修 回 日期 ：2009—04—27 基金项 目：国家 自