纳米TiO2薄膜制备与表面形貌的研究.pdfVIP

维普资讯 真 空 科 学 与 技 术 学 报 第28卷 第 1期 72 C如 ESEJOUl AL0FVACIl『I『SCIENCEAND 珊IC卸 IJClG_Y 2008年 1、2月 纳米TiO2薄膜的制备与表面形貌研究 孟凡明， 周明飞 蔡 琪 孙兆奇 ， (1．安徽大学物理与材料科学学院 合肥 230039； 2．光电信息获取与控制教育部重点实验室(安徽大学) 合肥 230039) GrowthandSurfaceMorphologyofNano-TiO2Films MengFanming’ ，ZhouMingfei，CaiQi，SunZhao~ ’ (1．SchoolofPhysicsandMaterialsScience，AnhuiUniversity，Hefei230039，Chn／a；2．嘶 IztboratoryofOpto-electronic 蜘 聊 nAcquisitionandMarapulation，(AnhuiUniverstiy)，MinistryofEducation，Hefei230039，Ch／na) Abstract SurfacemorphologyofTi02films，grownbyRFmagnetronsputteringonSisubstrateandannealedatdif- ferenttemperatures，werecharacterizedwithX—raydiffraction(XRD)，atomicforcemicroscopy(AFM)nadX-rayphoto— electronspectroscopy(XPS)．Theresultsshowthattheannealingtemperaturesignificnatlyaffectsitsmicrostructures．For instnace，annealde below400℃ ，thefilm isamorphous；however，atannealingtemperaturesof400℃ or600℃ ，anatase nadfutilecome~intobeing，respectively．Atna annealingtemperature higherthna 1000℃，anatasephaseturnsintorutile phasecompletely．Asannealingtemperaturerisesupfrom400℃ to1000℃ ，htegrainsizegrowsnadhtesurfacerough— elIS，butturningaroundat1000℃ abruptly，possiblybecauseofhtephasetransition． Keywords Ti02htinfilms，Magnetronsputtering，Anneal，Anatase，Rutile 摘要 研究退火温度对薄膜相结构、表面化学组成及形貌的影响。采用射频磁控溅射法在单晶硅片上淀积TiO2薄膜，通过 x射线衍射(XRD)、原子力显微镜(ARM)和x光电子能谱 (Ⅺ，S)对其进行表征。结果表明，室温制备400oC以下退火的TiO2薄膜 为无定形结构，400oC以上退火的TiO2薄膜出现锐钛矿相，600oC以上退火的Tio2薄膜开始出现金红石相，退火温度在 1000oC以 上时样品已经完全转变为金红石相；随着退火温度的升高，晶粒尺寸和表面粗糙度逐渐增大，但是当退火温度为 1000~C时反而有 所减小，晶粒尺寸和表面粗糙度在退火温度为 1000 时发生的这一突变现象，是由该退火温度下的相变导致。 关键词 Ti02薄膜 磁控溅射 退火 锐钛矿 金红石 中图分类号：0484．1 文献标识码：A 文章编号：1672．7126(20o8)O1．072．06 Ti02材料能有效催化降解空气和水中的有机和 其光催化效率[93。本文采用射频磁控溅射法在单 无机污染物，在废水处理、空气净