分子印迹聚合物制备及孔结构的研究.pdfVIP

第 2 期 高 　分 　子 　学 　报 No . 2 2005 年 4 月 ACTA POL YMERICA SINICA Apr . , 2005 分子印迹聚合物的制备及孔结构研究 孙瑞丰 　于慧敏 　罗 　晖 　沈忠耀 (清华大学化学工程系生物化工研究所 　北京 　100084) 摘 　要 　以 N叔丁氧羰酰L色氨酸和N叔丁氧羰酰L酪氨酸为印迹分子 ,分别采用光引发聚合和热引发聚 合制备了分子印迹聚合物 ,并对聚合物的手性识别能力进行了色谱评价. 结果表明 ,制备的分子印迹聚合物对 印迹分子具有特异性的吸附作用 ,光引发聚合的 N叔丁氧羰酰L色氨酸的印迹聚合物对印迹分子的选择性 因子达到 2 . 318 ,热引发聚合的 N叔丁氧羰酰L酪氨酸对印迹分子的选择性因子为 1373 进一步研究了分 子印迹聚合物的孔结构 ,发现光引发聚合的分子印迹聚合物与空白聚合物的孔结构差别比热引发聚合的分 子印迹聚合物与空白聚合物的差别更为明显. 对印迹分子洗脱前后的印迹聚合物的孔结构研究进一步表明 , 印迹分子存在于不同类型的孔中. 关键词 　分子印迹聚合物 , 光引发聚合 , 热引发聚合 , 孔结构 ( ) 　　分子印迹技术是制备具有分子识别能力聚合 丁氧羰酰D色氨酸 NBocDTrp 、N叔丁氧羰 ( ) 物的技术 ,近年来受到了越来越多的重视. 分子印 酰D酪氨酸 NBocDTyr ,Acros 公司 ,分析纯. ( ) 迹聚合物 MIPs 已经成功地应用于色谱分离 、固 交联剂 EDGMA 通过活性炭吸附去除阻聚剂对 甲 相萃取 、模拟酶和传感器等领域[ 1～5 ] . 但是关于分 氧基苯酚. 引发剂 AIBN 两次重结晶后使用. 子印迹识别机理的研究还不成熟 ,这逐渐成为分 高压气动泵 ,北京市西助技术服务中心 CGY 子印迹研究中的一个新的热点. 现在的学者有的 100 ;高压液相色谱仪 , 岛津 SCL - 10Avp ; 场发射 [6 ] 从热力学角度 进行研究 ,有的利用化学平衡和 扫描电子显微镜 ,J SM6301F ;压汞仪 ,AUTOSCAN 各种光谱手段 、模拟手段[7 ,8 ] 进行研究 ,但还很少 33 、Autopore IV 9510 ; 比表面积分析仪 ,ASAP2010 [9 ] 有人对分子印迹聚合物的物理结构 进行系统的 12 　分子印迹聚合物( MIPs) 的制备 研究. 由于从本质上讲 ,MIPs 对印迹分子的识别 121 　光引发聚合 　　称取 0761 g (25 mmol) 来源于 MIPs 同印迹分子在功能基团及空间结构 N叔丁氧羰酰L 色氨酸 ,溶于 1465 mL 乙腈中 , 上的相互匹配 ,因此 ,本文对分子印迹聚合物的空