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第5章金属薄膜材料
Metallic Film
主讲老师 :严红革
引言
金属薄膜
分类
非金属薄膜
硬质薄膜
声学薄膜
热学薄膜
金属导电薄膜
物性 半导体薄膜
超导薄膜
介电薄膜
磁阻薄膜
光学薄膜
薄膜应用 :薄膜材料及相关薄膜器件兴起于20
世纪60年代。是新理论、高技术高度结晶的产物。
主要的薄膜产品:光学薄膜、集成电路、太阳能
电池、液晶显示膜、光盘、磁盘、刀具硬化膜、建
筑镀膜制品、塑料金属化制品。
薄膜是现代信息技术的核心要素之一:
薄膜材料与器件结合,成为电子、信息、传感器、
光学、太阳能等技术的核心基础。
一、金属薄膜的形成及其结构
金属薄膜是由蒸发原子凝聚或附着于基片上形成
的,金属薄膜既能形成多晶薄膜,也能在某一条件
下形成单晶薄膜。金属薄膜原子排列是否有序,取
决于蒸发原子在基片上的迁移。这个运动状态受到
蒸发原子之间相互作用和蒸发原子与基片间的相互
作用,以及基片温度等因素的影响,其结果导致了
薄膜的不同生长过程和不同的结构。
1. 薄膜的形成模型
薄膜的形成:
形成稳定核(在捕获区)
⇒ ⇒ ⇒
单体吸附形成小原子团形成临界晶核
形成临界核(非捕获区)
大尺寸岛大尺寸岛接触形成沟道薄膜
⇒小岛⇒ ⇒ ⇒
二次成核二、三次成核二、三次成核
(在新面积处)
连续薄膜
⇒ (在沟道和孔洞处)
三次成核
小岛成核 核长大 结合 沟道 孔洞 连续膜
薄膜形成过程描述
吸附过程
吸附是薄膜形成的最初阶段。在沉积过程中蒸气
原子与衬底相遇时产生吸引。
进行吸附时,蒸气原子或分子和衬底的总能量降
低,所放出的热量为吸附热。
吸附方式:物理吸附、化学吸附。
吸附是动态过程。若原子动能超过吸附能,则会
从衬底脱离。吸附原子在衬底表面的平均驻留时间
受吸附能大小和衬底温度的影响。吸附能大则容易
吸附,衬底温度高则不易吸附。
成核过程
当蒸气原子到达衬底表面,通过吸附作用形成原
子团簇,称为成核过程。晶核的大小与成核条件有
关。根据透射电镜观察研
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