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2011 年第 69 卷 化 学 学 报 Vol. 69, 2011
第 16 期, 1874~1880 ACTA CHIMICA SINICA No. 16, 1874~1880
·研究论文·
C H O, C H S 与XF (X =F, Cl, Br)分子间卤键的电子密度拓扑研究
4 6 4 6
曾艳丽 吉丽婷 郑世钧 孟令鹏*
(河北师范大学化学与材料科学学院 计算量子化学研究所 石家庄 050016)
摘要 运用 MP2/aug-cc-pVDZ 方法对 2,5-二氢呋喃, 2,5-二氢噻吩与 XF (X =F, Cl, Br)之间的卤键作用进行了理论研究.
研究发现: C H O, C H S 与XF 之间不仅存在 O(S)…XF n 型卤键, C=C 双键与XF 分子亦可形成π型卤键; 对于 C H O
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与 XF 之间的 n 型和 π型卤键以及 C H S 与 XF 之间的 π型卤键, 卤键键能ΔE 、键鞍点处的电子密度ρ(r ) 以及电子给
4 6 c
体到受体之间的电子转移数 Δq(XF)均按 B …F <B …ClF<B …BrF (B =C H O, C H S)的顺序依次增大; 对于卤键键能
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较大的体系 C H O…BrF(n), C H O…BrF(π), C H S…F (n), C H S…ClF(n), C H S…BrF(n), C H S…BrF(π), 卤键作用
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介于离子键和共价键之间; 而对于其它的卤键键能较小的体系, 卤键作用为闭壳层静电作用.
关键词 分子间相互作用; 卤键; 电子密度拓扑分析; 积分性质; 2,5-二氢呋喃; 2,5-二氢噻吩
Topological Analysis of Electron Density on the Halogen-bonding
Interactions Between C H O, C H S and XF (X =F, Cl, Br)
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Zeng, Yanli Ji, Liting Zheng, Shijun Meng, Lingpeng*
(Institute of Computational Quantum Chemistry, College of Chemistry and Material Science, Hebei Normal
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