TiO_2_Al_2O_3薄膜原子层沉积和光学性能分析.pdfVIP

4 2 第 卷 第 期 中国光学 Vol． 4 No． 2 2011 4 Chinese Optics Apr． 2011 年 月 文章编号 1674-2915 (2011)02-0188-08 TiO2 / Al2 O3 薄膜的原子层沉积和光学性能分析 卫耀伟 刘志超 陈松林 ( ， 61004 1) 成都精密光学工程研究中心 四川成都 : BK7 TiO / Al O ， 110 ℃ 280 ℃ 。 摘要 采用原子层沉积技术在熔石英和 玻璃基片上镀制了 2 2 3 薄膜 沉积温度分别为 和 利用 X ， 。 Nomarski 射线粉末衍射仪对膜层微观结构进行了分析研究 并在激光损伤平台上进行了抗激光损伤阈值测量 采用 。 ， TiO / 微分干涉差显微镜和原子力显微镜对激光损伤后的形貌进行了观察分析 结果表明 采用原子层沉积技术镀制的 2 Al O ，50 mm 99% ; ， 1 064 nm 2 3 增透膜的厚度均匀性较好 Φ 样品的膜层厚度均匀性优于 光谱增透效果显著 在 处的透过 ＞ 99. 8% ; BK7 ，TiO / Al O 110 ℃ (6. 73 ± 0. 47 )J / cm2 (6. 5 ± 率 在熔石英和 基片上 2 2 3 薄膜在 时的激光损伤阈值分别为 和 0. 46)J / cm2 ，明显高于在280 ℃ 时的损伤阈值。 : ; ; ; 关 键 词 薄膜光学 原子层沉积 激光损伤 增透膜 中图分类号:O484 ． 4 文献标识码:A Optical characteristics of TiO2 / Al2 O3 thin films and their atomic layer depositions WEI Yao-wei ，LIU Zhi-chao ，CHEN Song-lin (Chengdu Fine Op tical Engineering Research Center ，Chengdu 61004 1，China) Abstract :Atomic Layer Deposition (ALD)was used to deposit TiO / Al O films at 110 ℃ and 280 ℃ on