磁控溅射铁镁镀层结构与力学性能关系.docVIP

磁控溅射铁镁镀层的结构与力学性能关系 O. Bouaziz a, A. Billardb, 摘要：铁镁镀层在不同压力和偏置条件下溅射沉积在玻璃和钢基板上。镁溅射的衬底偏压在-75～-100之间，强烈的副作用导致镁含量梯度在中心与基板边缘上有一个比较重要的氩植入。 在镁含量达到20%而无氩时涂层密集结构的内部压应力和衬底偏压分别为0.2Pa和-50V。随着镁含量增加，涂层从17%镁的部分非晶相变为37at%镁的全非晶相。硬度测量表明，镁富集相达到7%。增加的硬度取决于固溶效果。为了更高的镁富集化，硬度降低符合逐步稳定的非晶涂层。非晶涂层的结晶发生在200°C左右，并且饱和体心立方固溶体的混合体源于铁和密排立方的镁。提高退火温度，降低了体心立方相的晶格参数，因此，镁饱和。最后表明，在300°C退火后，低镁含量涂层（3at%镁）同时出现体心立方的铁和密排立方的镁的衍射线，证明了镁和铁的不溶性符合热力学平衡条件。 关键词：磁控溅射，铁镁涂层，结构特征 1.引言 降低铁合金密度对铁制造商构成一个重大的挑战，特别是汽车应用方面。为了解决这个问题提出了不同的解决方案。因为加入了极低密度的镁，铁镁合金有望提高机械性能与密度的比值。然而，涂层沉积过程需要构成一种廉价的方法来降低合成大量铁镁合金的成本。本文探讨其潜在的利益及其力学性能随其镁含量的关系。 铁和镁已知是热力学不相溶的，特别是由于其差异很大的原子半径。因此，铁镁溅射沉积或蒸发涂层很少被研究到。目前，除了他们的多层纳米涂层的磁场性质和最近由于反射到透明过渡金属的氢化物的转变为开关的镜子MgFe2Hx进一步加氢。 在本文中，我们探讨各种形式的中性氩气氛下的铁和镁溅射沉积的富铁铁镁涂层。通过反应堆配置说明，我们目前最初的铁配置用于这项研究。然后对放电参数的影响进行调查，以确定基本溅射条件。对于致密的铁镁涂层的沉积是由其结构和力学性能以及他们的热稳定性与他们的化学成分决定的。 2.实验步骤 铁镁涂层在室温(b60 °C)溅射沉积在玻璃和铁素体不锈钢AISI 430基板上，同时溅射有两个金属靶的纯氢。实验装置是一个40升的溅射腔泵，也可以通过一个允许基本真空约10-4Pa的涡轮分子泵，配置有两个靶相距120mm, 平行于靶的互相用旋转衬底夹具。对着靶定位衬底，中心到衬底夹具为60mm,取50mm(DT-s)的距离。50mm距离的靶安装在不平衡磁控管，并采用了先进能源发电机（直流电源配备了20kHz Spark-le脉冲单位和/或Pinnacle+)。控制MKS流量计，是氩气流量控制在40至20sccm，调节产氩压力，使用aMKS Baratron衡量指标，使其分别在0.4 和0.2 Pa。沉积是由固定放电执行的，目前消退铁靶在0.5A，通过改变放电电流消退镁高达0.3A。实验运行时间为2小时并且适用衬底偏压在-50V～-100V之间浮动。为了使载波片的固定好，要用表面暴露于金属流的导电铜棒固定。 用载玻片步骤法测量得涂层厚度约2～4μm，球在钢基板上运行的Talysurf轮廓允许的精度在大约20～30nm。通过使用掠射角X射线衍射(λkαCo=0.179 nm)和Inel衍射一个入射角4°，得到涂层的结构特点。A Phillips FEG XL30S扫描电子显微镜还配备了能谱能源谱仪，用于化学成分的测量。 对应力进行测量，测量沉积后产生的薄钢悬臂(100μm的4x50mm)的曲率。最初真空下550°C退火1小时。利用光学显微镜与动产表进行曲率测量，从而使测定的X/Z用不同的立场分悬臂。最后进行硬度测量，维氏压痕采用10 g的恒载荷。最后，保持AISI 430基板上2小时的所选择的温度，然后在300 °C的空气中进行退火处理。 图1是用于本研究的铁靶的具体配置，它源于以前的研究。它是将1.5mm厚的铁环固定在一个铜环上，而外部有一个不锈钢环和一个中央不锈钢件，铁螺丝杆件和铜件通过不锈钢件相连。靶的不同部分的尺寸为优化实验，为避免铁加热和增加放电产生以前的配置和相关的杂质(Cu 或 Cr)进入镀层。 3.结果和讨论 3.1测定基本沉积条件。 3.1.1表面形貌和组成 首次运行对本次研究的基本条件进行了修复。因此，铁(0.5 A)和镁 (0.1 A) 受到0.4Pa的氩气压力和在衬底上的浮力。照片（图2）显示了金相的形貌和特征及其较低的密集度。衬底偏压会影响涂层致密度。EDS描绘出从薄膜的中心到边缘对着靶的位置被沉积在25×25mm的AISI 430基板上并且衬底偏压在-50～-100V之间，发现其镁含量的一个重要的演化，强烈的副作用的特征。这种副作用在衬底偏压为-