磁控溅射氧化钒薄膜相组成及性能.pdfVIP

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2017-08-30 发布于安徽
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磁控溅射氧化钒薄膜相组成及性能.pdf

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第 18 卷第 12 期中国有色金属学报 2008 年 12 月 Vol.18 No.12 The Chinese Journal of Nonferrous Metals Dec. 2008 文章编号：1004-0609(2008)12-2196-06 磁控溅射氧化钒薄膜的相组成及性能 1, 2 1, 2 1, 2 1, 2 陈爽，余志明，刘凤举，方梅 (1. 中南大学材料科学与工程学院，长沙 410083 ； 2. 有色金属材料科学与工程教育部重点实验室，长沙 410083) 摘要：采用反应磁控溅射法在玻璃基底上沉积氧化钒薄膜，分别利用 X 射线衍射 (XRD) 、原子力显微镜(AFM) 和红外光谱仪分析样品的物相、表面形貌和红外光透过率。结果表明：氧气体积分数低于 15%时，薄膜为低价钒氧化物，高于 20% 时薄膜为V O ；氧气体积分数等于 15%时，溅射功率由 150 W 增加到 200 W ，薄膜中钒的价 2 5 态变低；当溅射功率为 250 W 时，薄膜物相变成VO2 。随着沉积时间从30 min 增加到 60 min，原子力显微分析显示 VO2 颗粒尺寸从约 200 nm 增加到 400 nm ；红外光透过率范围从 55%~65%减小到 45%~55% 。关键词：氧化钒；反应磁控溅射；红外透过率中图分类号：TG 43 文献标识码： A Phase compositions and property of VO thin films by x magnetron sputtering CHEN Shuang, YU Zhi-ming, LIU Feng-ju, FANG Mei (1. School of Materials Science and Engineering, Central South University, Changsha 410083, China; 2. Key Laboratory for Nonferrous Materials Science and Engineering of Ministry of Education, Changsha 410083,China) Abstract: VO thin films were produced on the substrates of glass by reactive magnetron sputtering. The phases, x morphology and infrared transmittance were detected by X-ray diffractometer, atomic force microscopy and infrared spectrometer, respectively. The results show that, unde