脉冲偏压对矩形平面大弧源离子镀TiN膜层性能影响.pdfVIP

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2017-08-30 发布于安徽
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22 4 Vol.22 No.4 2 0 0 8 8 CHINESE JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH August 2 0 0 8 TiN ∗ 1 1 1 1 1 2 Æ 3 1. 150001 2. 110045 3. 150020 201 TiN , TiN . , , , Æ. , TiN I(111)/I(200) . –300 V Æ TiN . , , , , , TB321 1005-3093(2008)04-0399-06 Inﬂuence of pulse bias on surface properties of TiN ﬁlms fabricated by arc ion plating with large rectangle targets LIN Yongqing1 GONG Chunzhi1 WEI Yongqiang1 TIAN Xiubo1∗∗ YANG Shiqin1 GUAN Bingyu2 YU Chuanyue3 1.State Key Lab of Advanced Welding Production Technology, School of Materials Science Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001 2.Shenyang Beiyu Vacuum Ltd., Co., Shenyang 110045 3.Harbin No.1 Tool Corporation, Harbin 150020 * Supported by National Science Foundation of China No Manuscript received April 20, 2007; in revised form April 17, 2008. ** To whom correspondence should be addressed, Tel:(0451 E–mail:xiubotian@hit.edu.cn ABSTRACT TiN ﬁlms were fabricated on 201 austenitic stainless steel by vacuum arc ion plating with large rectangular planar target. The eﬀect of pulse bias on the surface morphology, micro-structure, surface hardness and wear resistance, etc has been investigated. The number of macro particles demonstrates an increase with sample bias, followed by a decrease with bias. This may be attributed to the competition between the force resulted from ion drag and force induced by electrical ﬁ