9无机合成与制备化学打印.pdfVIP

CVD在无机合成与材料制备中的 应用与相关理论 一、化学气相沉积的简短历史回顾 CVD(Chemical Vapor Deposition)的定义 古人类取暖或烧烤时熏在岩洞壁或岩石上的黑色碳层 化学气相沉积是利用气态或蒸气态的物质在气 中国古代炼丹术中的“升炼” （最早的记载） 20世纪50年代现代CVD技术用于刀具涂层（碳化钨为基 相或气固界面上反应生成固态沉积物的技术。 材经CVD氧化铝、碳化钛、氮化钛） 一、化学气相沉积的简短历史回顾 20世纪60、70年代半导体和集成电路技术、超纯多晶硅。 二、化学气相沉淀的技术原理 1990年以来我国在激活低压CVD金刚石生长热力学方面, 三、化学气相沉淀的技术装置 根据非平衡热力学原理，开拓了非平衡定态相图及其计 算的新领域，第一次真正从理论和实验对比上定量化地 四、CVD技术的一些理论模型 证实反自发方向的反应可以通过热力学反应耦合依靠另 一个自发反应提供的能量推动来完成 二、化学气相沉积的技术原理 为了适应CVD技术的需要，通常对原料、产 CVD技术用于无机合成合材料有以下特点 1、沉积反应如在气固界面上发生则沉积物将按照原有基底的形状 物及反应类型等也有一定的要求: 包覆一层薄膜。实例：涂层刀具、超大规模集成电路 2 、采用CVD技术也可以得到单一的无机合成物质，并用以作为原 (1)反应原料是气态或易于挥发成蒸气的液态或固 材料制备。实例：气相分解硅烷制备多晶硅。 态物质。 3、如果采用基底材料，在沉积物达到一定厚度以后又容易与基底 (2)反应易于生成所需要的沉积物而其它副产物保 分离，这样就可以得到各种特定形状的游离沉积物器具。 留在气相排出或易于分离. 实例：碳化硅器皿和金刚石膜部件。 (3)整个操作较易于控制。 4 、在CVD技术中也可以沉积生成集体或细粉状物质。例如生成银 朱或丹砂；或者使沉积反应发生在气相中而不是在基底的表面 上，这样得到的无机合成物质可以是很细的粉末，甚至是纳米 尺度的微粒称为纳米超细粉末。 用于化学气相沉积的反应类型: 2.1 简单热分解和热分解反应沉积 2.1 简单热分解和热分解反应沉积 通常IV B族ⅢB族和ⅡB族的一些低周期元素的氢化物如CH 、 4 SiH 、GeH 、B H 、PH 、AsH 等都是气态化合物，而且加热 2.2 氧化还原反应沉积 4 4 2 6 3 3 后易分解出相应的元素。因此很适合用于CVD技术中作为原料 2.3 合成反应沉积