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建设项目概况
1.1建设项目地点及相关背景
天津三安光电有限公司为三安光电股份有限公司于2008年12月投资成立的全资子公司。该公司位于天津华苑科技产业园,南临海泰道、西临日技园、东侧为工业用地、北侧为公共设施用地。于2009年组建了超高亮度LED外延片和芯片生产线天津三安光电有限公司项目于2009年3月由天津市环境影响评价编制了环境影响报告书,通过了天津市环保局组织的环保验收。天津三安光电有限公司,
1.2建设项目主要建设内容、生产规模、建设周期和投资
本项目利用原有空闲厂房,装修3000平方米净化车间,配置生产工艺需要的配电、给排水、纯水、压缩空气、真空系统、废水系统、空调系统、工艺排风系统、特气管道、消防系统、弱电系统、自控系统等动力系统, 配备芯片专属生产设备和芯片专属可靠性测试设备。本项目建成后,生产规模为。天津三安光电有限公司,
1.3建设项目产业政策符合性分析
本项目为三安光电股份有限公司LED本项目生产的产品属于《产业结构调整指导目录》(2011年本)中鼓励类项目,项目的建设符合国家的产业政策。本项目属于《天津市产业技术进步指导目录》(2005年-2010年)中高亮度发光二极管(LED)生产技术鼓励类项目,项目的建设符合天津市产业政策。
位于天津华苑科技产业园,南临海泰道、西临日技园、东侧为工业用地、北侧为公共设施用地。
项目周边环境及环保目标示意图
该地区常规污染物SO2PM10、NO2的年均值均满足GB3095-1996《环境空气质量标准》(二级)。201年全年达到或优于Ⅱ级良好水平天数为天(84.1%)。华庄子村对硫酸雾、氟化物的监测未检出mg/m3,华庄村为0.05mg/m3,砷化氢下风向200m处最大浓度2.23×10-3 mg/m3,磷化氢下风向200m处未检出,监测因子均满足《环境空气质量标准》(二级),满足TJ36-79《工业企业设计卫生标准》中居住区最高容许浓度监测数据表明,常规生化需氧量氨氮满足GB-2002《环境质量标准》()。
根据验收监测结果,该企业四侧厂界噪声均满足GB12348-2008《工业企业厂界环境噪声排放标准》中3类界噪声达标(1)大气
本项目废气主要为砷化镓外延废气、酸雾、有机废气、项目选址在天津市新技术产业园区华苑产业区,根据建设项目污染物排放特点、本项目排气筒最高2m和当地气象条件以厂址周围2.5km范围区域为评价范围。
(2)水
本项目废水主要来来源于生产废水、生活污水和纯水站排浓水。本项目废水经华苑产业区污水管网最终排至咸阳路污水处理厂,故本项目废水评至厂区总排污口。
(3)噪声
评至厂界外1m。
本项目主要车间增加生产设备,无土建施工。施工期产生的污染物主要为设备安装产生的噪声,由于在室内进行设备安装,对外环境影响较小,不再对施工期进行环境影响分析。本项目建成后砷化氢用量为kg/a,磷化氢用量为kg/a。根据砷化氢和磷化氢用量类比扩建后砷化氢排放速率为×10-3kg/h,磷化氢排放速率为×10-4kg/h。
硫酸雾最大排放速率为×10-3kg/h,氟化物最大排放速率为×10-2kg/h,盐酸最大排放速率为×10-3kg/h。×10-2kg/h,异丙醇最大排放速率为3.6×10-4kg/h。干法蚀刻废气中氯气产生量为4.5 kg/a,约为0.62×10-4kg/h,排放浓度为1.2×10-2mg/ m3。
3.1.2废水
本项目建成后,该企业新增废水量主要为生产废水、生活污水和纯水制备机排浓水。其中生产废水增加量为m3/d,生活污水增加量为m3/d,纯水制备机排浓水增加量为m3/d。
本项目增加的生产废水量包括化学尾气处理器排水(W1)、砷化镓芯片生产清洗废水(W)、砷化镓芯片研磨废水(W)、砷化镓芯片切割废水(W)(W)。化学尾气处理器排水(W1)、砷化镓芯片生产清洗废水(W)、砷化镓芯片研磨废水(W)、砷化镓芯片切割废水(W)均为含砷废水根据报告,含砷废水经处理总砷浓度范围为~0.mg/L,本项目含砷废水产生量约为m3/d,含砷废水经处理总砷浓度范围mg/L。
()纯水站排浓水W
本项目纯水站排浓水新增量为m3/d,主要污染物为盐份,直接排入市政污水管网。()W3
本项目使用湿法尾气处理器精华干法蚀刻废气(主要为氯气),净化过程中产生净化废水,产生量为4.5m3/d,无特征污染物,排水进入中和池。
本项目为酸废水,将其排入调节池进行中和处理。砷化镓清洗、研磨和切割废水中均含有第一类污染物总砷。含砷废水经该企业的含砷废水处理装置进行处理。本项目噪声主要来源于厂房内新增气相外延沉积设备、研磨机、分选机等生产设备源强约为80~85dB(A)。本项目固体废物产生量及处置去向见表3--1。表3--1 主要固体废物产生量及处置去向
种类 编号 废物名称 类别 产生
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