7.4 磁光效应材料与记录原理.pptVIP

* 7.4 磁光效应材料与记录原理 磁盘由在圆盘状基表面附着磁记录介质层构成。 由于其高存储容量、随机存取容易、迅速等优点，已成为数字式记录、存储媒体的主要形式。 记录密度与激光波长的关系： 激光光斑直径与波长的关系： D约与波长成正比。 各种磁盘的结构示意图 基板 铝合金（Mg_Al)（1-2mm) 磁性层（磁性粉、粘结剂、添加剂） 润滑剂 硬盘 碳保护膜 磁性膜（CoCr(Ta)） 基板 铝合金 Ti 电镀NiFe膜 垂直磁性膜硬盘 通常采用各种溅射法，一般情况下还夹有一层Cr基地层 基板 铝合金 SiO2保护膜 电镀磁性层(CoNiP) NiP 电镀磁性膜硬盘 基板 (如PET) 基板(可挠性） (如PET) 基板 (如PET) 磁性层（磁性粉、粘结剂、添加剂） 软盘（涂布型软盘） 磁性层(CoNi(O)) 磁性层(CoNi(O)) Ti膜 倾斜蒸镀可挠性软盘（薄膜性磁盘） 准二层膜垂直记录可挠性软盘（薄膜性磁盘） 磁记录介质：涂布型——薄膜型——垂直记录型顺序发展。 采用电镀、蒸镀、溅射等方法。 磁性材料需要有大的磁各向异性微结构，需要Co合金膜沿特定方位生长，为此需要Cr打底层。 磁光效应材料——光盘 磁光盘以光热磁原理进行记录、再生、属于可擦除重写型光存储器，即可通过光热磁，将不必要的信息擦除，并改写为必要的信息，目前所用的材料主要为锝(Tb)、铁、钴等构成的非晶态合金膜。（向多层膜方向发展） 光磁记录具有下述特征： （1）记录密度高（107-1010bit/cm2) （2）可擦除重写 （3）非接触式，从而可靠性高 （4）随机寸取 （5）光盘可自动装卸； （6）可用于多道记录及全息照相存储 光磁记录的原理 磁光效应是基于光与物质的磁化（或磁场）相互作用，而使光学参数发生变化的现象。 光盘 记录膜 气体激光器 半导体激光器 光调制器 透镜 光束分离器 光检出器 随机反射镜 聚焦透镜 记录时，利用激光的高能量，再生（读取）时，利用激光反射信号的检出（克尔效应） 记录与再生的原理：记录介质采用较大的矫玩力 垂直磁化膜 垂直磁化膜 记录位bit 记录或写入方式有：居里温度写入和补偿温度写入。 弱磁场：使记录位磁化反转 居里温度写入：磁性膜中需要记录的部分被激光照射加热，温度上升到Tc以上，该部分变为非磁性，在其冷却过程中，受其周围基体反磁场作用，会发生磁化反转。如果通过线圈或永磁体外加磁场，则可实现磁化的完全反转。 补偿温度写入：铁磁体垂直磁化膜的磁补偿温度应在室温附近。当这种铁磁体被激光加热到较高温度，该温度下对应的矫玩力比室温时的矫玩力要低的多，这样，在较弱的外磁场下即可容易地实现磁化反转。 读出或再生原理：利用克尔效应或法拉第效应读出。读出时激光不能使记录介质过热，其加热功率要比记录时的功率低。 光电二极管 光盘的剖面图 光磁记录介质应具备的特性： （1）满足垂直磁化的的条件 （2）作为能稳定的保持微小磁畴结构的条件 （3）再生灵敏度高 （4）记录灵敏度高 （5）低噪音 （6）化学、结构等稳定 （7）便于大面积均质成膜 TbFeCo磁光材料具有下列优势： （1）在近红外能长期使用 （2）可容易垂直磁化 （3）非晶态结构，可避免晶界等造成的再生噪音 （4）居里温度200度，与半导体激光功率可良好的对应。 采用多层膜用以提高旋转角 基板 保护层 SiO,ZnS 记录层Tb-Fe-Co 玻璃成分B2O3BaO + BaO,Fe2O3 （Ba铁氧体成分） + CoO,TiO2 （矫玩力调整） 熔融急冷凝固 Ba铁氧体薄片 结晶化 Ba铁氧体磁性粉 下一代光磁记录材料 为提高高记录密度，采用短波长光，重点集中在在短波长区具有较大克尔旋转角的材料，主要为含有Nd及Pr的非晶态稀土(R)-Fe-Co合金膜、Bi置换磁性石榴石、Pt/Co多层膜（超晶格膜，磁性与非磁性界面效应，可以开发出新的性能和功能） 超高密度信息记录的新技术： 激光技术透镜聚焦 超纳米加工及分析测试技术：扫描隧道显微镜(STM)、原子力显微镜(AFM)、磁力显微镜(MFM)等 采用可提高写入和读取密度的磁超分辨技术和磁畴扩大再生技术。 短波长用法拉第旋转器件用材料：含Tb的顺磁性玻璃、含Pb的反磁性玻璃，含Eu的顺磁性玻璃,Tb3Ga5O12,Tb3Al5O12,Cd0.55Mn0.45Te,CdMnHgTe *