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第10章 配位平衡与配位滴定法 配位滴定法是以配位反应为基础的滴定分析方法，是广泛应用于测定金属离子的方法之一。由于配位滴定法的基础是配位化合物和配位平衡，因此本章首先介绍配位化合物的概念和溶液中配位平衡的基本理论，然后学习配位滴定法的基本原理及应用。 10.1 配位化合物的基本概念 配位化合物简称配合物，也称络合物。如[Ag NH3 2]Cl、[Cu NH3 4]SO4等。配位化合物数量很多，对配位化合物的研究已发展成一个主要的化学分支 ── 配位化学，并广泛应用于工业、农业、生物、医药等领域。配位化学的研究成果，促进了分析技术、配位催化、电镀工艺以及原子能、火箭等尖端技术的发展。对配位化合物性质和结构的研究，加深和丰富了人们对元素化学性质、元素周期系的认识，推动了化学键和分子结构等理论的发展。总之，配位化合物在整个化学领域中具有极为重要的理论和实践意义。本节将从配位化合物的基本概念出发，对其有关化学问题作一初步介绍。 10.1.1 配合物的组成 配合物一般分内界和外界两部分，内界又分为形成体和配位体两部分，组成如下： 形成体 内界--又称内层（配离子） 配合物 配位体 外界--又称外层（反离子） （1）形成体，又称中心离子或原子：通常是金属离子或原子以及高氧化值的非金属元素，它位于配合物的中心位置，是配合物的核心。如[Cu NH3 4]2+中的Cu（Ⅱ），Ni CO 4中的Ni原子，[Si F 6] 2-中的Si（Ⅳ）。 （2）配位体，简称配体：是与形成体以配位键结合的阴离子或中性分子。例如[Cu NH3 4]2+中的NH3分子，[Fe CN 6]3 -中的CN -离子。 （3）配位原子：是指在配体中能给出孤对电子的原子。如：NH3中的N，CN -中的C，H2O和OH -中的O原子等。常见的配位原子主要是周期表中电负性较大的非金属元素，如N，O，S，C以及F，Cl，Br，I等原子。 （4）配位体齿数：配位体中含配位原子的数目。配体分为单齿配体和多齿配体。单齿配体只含一个配位原子且与中心离子或原子形成一个配位键，其组成比较简单，往往是一些无机物等；多齿配体含两个或两个以上配位原子，它们与中心离子或原子可以形成多个配位键，其组成常较复杂，多数是有机分子。表10-1列出一些常见的配体。表10-1　一些常见的配体 配体类型 实 例 单齿配体 H2O NH3 F - Cl - I - [ C N] - [ OH] - 水 氨 氟 氯 碘 氰根离子 羟基 多齿配体 H2C-CH2 H2N NH2 乙二胺（en） C-C 草酸根（ox） C-CH2 CH2-C N-CH2-CH2-N C-CH2 CH2-C 乙二胺四乙酸根离子（EDTA） （5）配位数：在配合物中与中心离子成键的配位原子数目。注意的是：配位数是指配位原子的总数，而不是配体总数。即由单齿配体形成的配合物，中心离子的配位数等于配体个数，而含有多齿配体时，则不能仅从与中心离子结合的配体个数来确定配位数。对某一中心离子来说，常有一特征配位数，最常见的配位数为4和6，如Cu2+、Zn2+、Hg2+、Co2+、Ni2+等离子的特征配位数为4；Fe2+、Fe3+、Co3+、Al3+、Cr3+、Ca2+等离子的特征配位数为6；另外还有Ag+、Cu+、Au+等离子的特征配位数为2。特征配位数是中心离子形成配合物时的代表性配位数，并非是唯一的配位数。如Ni2+等离子就既能形成配位数为4，也能形成配位数为6的配合物。 （6）配离子的电荷：中心离子的电荷与配体的电荷的代数和即为配离子的电荷。例如在[CoCl NH3 5]Cl2中，配离子[CoCl NH3 5]2+的电荷为：3×1+ -1 ×1+0×5＝+2。 也可根据配合物呈电中性，配离子电荷可以简便地由外界离子的电荷来确定。例如[Cu NH3 4]SO4的外界为SO，据此可知配离子的电荷为+2。 10.1.2 配合物的命名 配合物的命名1）配合物为配离子化合物，命名时阴离子在前，阳离子在后。若为配位阳离子化合物，则叫“某化某”或“某酸某”；若为配位阴离子化合物，则配阴离子与外界阳离子之间用“酸”字连接。 （2）内界的命名顺序为：配体个数—配体名称—合—中心离子或原子3）当配体不止一种时，不同配体之间用圆点 · 分开，配体顺序为：阴离子配体在前，中性分子配体在后；无机配体在前，有机配体在后；同类配体的名称，按配位原子元素符号的英文字母顺序排列。下表列出一些配合物的命名实例： 化　学　式 名　　　称 分　类 [Pt NH3 6]Cl4 四氯化六氨合钴（Ⅲ） 配位酸 [CoCl NH3 3 H2O 2]Cl2 二氯化氯·三氨·二水合钴（Ⅲ） K4[Fe CN 6] 六氰合铁（Ⅱ）酸钾 K[FeCl2