真空镀膜专用测温仪.docVIP

ECD-真空镀膜专用测温仪 目录 1、真空镀膜介绍 1 1.1、真空的定义 1 1.2、什么是真空镀膜技术 1 1.3、真空镀膜技术的分类 1 1.4、镀膜技术介绍 1 1.4.1真空蒸镀 1 1.4.2溅射镀膜 2 1.4.3离子镀膜 2 1.5镀膜材料 2 2真空镀膜设备 2 2.1常见真空镀膜机（外形） 2 2.2常用真空镀膜机 3 2.3各国镀膜机现状 3 2.4真空镀膜机设备参数 3 2.5 真空镀工艺参数 3 3、镀膜工艺流程 4 4、真空镀膜温度监测的必要性 5 5、某客户AKT镀膜机介绍 5 5.1 AKT镀膜机 5 5.2 针对智能手机与平板电脑触屏的镀膜设备－AKT Aristo Twin 5 5.3 某客户AKT镀膜机工艺参数 6 5.4某客户测温方案 6 5.5某客户镀膜机温度测试曲线 7 5.5.1 打靶 7 5.5.2未进行打靶的温度曲线 8 5.5.3 进行打靶的温度曲线 9 1、真空镀膜介绍 1.1、真空的定义 真空指低于该地区大气压的稀薄气体状态。 处于真空状态下的气体稀薄程度通常用“真空度高”和“真空度低”来表示。真空度高表示真空度“好”的意思。真空度低表示真空度“差”的意思。 低真空（一般在760—10托） 中真空（一般在10—10 – 3托） 高真空（一般在10 - 3—10 -8托） 超高真空（一般在10-8—10 -12 ） 注：1标准大气压=760mmHg=760Torr 1标准大气压=101325Pa 1Torr=133Pa 1.2、什么是真空镀膜技术 在真空条件下利用某种方法，在固体表面上镀一层与基体材料不同的薄层材料，也可以利用固体本身生成一层与基体不同的薄层材料。这就是真空镀膜技术。在固体表面上镀上一层薄膜，就能使该基体材料具有许多新的物理和化学性能。因此，真空镀膜技术又称表面改性技术。 1.3、真空镀膜技术的分类 主要分为湿式镀膜法和干式镀膜法。湿式镀膜法可分电镀法、化学镀法；干式镀膜法常称真空镀膜法、气相沉积——物理气相沉积(Physical Vapor Deposition\PVD)和化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition\CVD)。 1.4、镀膜技术介绍 这里主要介绍一下物理气相沉积(Physical Vapor Deposition\PVD)镀膜技术，主要有以下三种镀膜方法： ·真空蒸镀 ·溅射镀膜 ·电弧离子镀 1.4.1真空蒸镀 同液体一样，固体在任何温度下都会或多或少的气化（升华），形成该物质的蒸汽。在高真空中，将镀料加热到高温，相应温度下的饱和蒸汽向上散发，蒸发原子在各个方向的通量并不相等。基片设在蒸汽源的上方阻挡蒸汽流，蒸汽则在其上形成凝固膜。为了弥补凝固的蒸汽，蒸发源要以一定的比例供给蒸汽。 1.4.2溅射镀膜 溅射镀膜是指在真空室中，利用荷能粒子轰击镀料表面，使被轰击出的粒子在基片上沉积的技术。 溅射镀膜有三种： 一种是在真空室中，利用离子束轰击靶表面，使溅射出的粒子在基片表面成膜，这称为离子束溅射。离子束要由特制的离子源产生，离子源结构较为复杂，价格较贵，只是在用于分析技术和制取特殊的薄膜时才采用离子束溅射。 一种是在真空室中，利用低压气体放电现象，使处于等离子状态下的离子轰击靶表面，并使溅射出的粒子堆积在基片上。 最后一种是磁控溅射法，又称高速低温溅射法。目前磁控溅射法已在电学膜、光学膜和塑料金属化等领域得到广泛应用。磁控溅射法是在1.3×10-1pa(10-3Torr)左右的真空中充入惰性气体，并在塑料基材(阳极)和金属靶材(阴极)之间加上高压直流电，由于辉光放电产生的电子激发惰性气体，产生等离子体。等离子体将金属靶材的原子轰出，沉积在塑料基材上。 1.4.3离子镀膜 就是在镀膜的同时，采用带能离子轰击基片表面和膜层的镀膜技术。离子轰击的目的在于改善膜层的性能。离子镀是镀膜与离子轰击改性同时进行的镀膜过程。 1.5镀膜材料 真空镀膜材料即是通过真空镀膜技术镀到基材上的成膜材料，以金属和金属氧化物为主。镀膜材料的性质直接关系到真空镀膜的质量和性能，镀膜材料不同，厚度不同，所得镀膜层性能和色泽也不一样。如镀铝层的连续性好于银、铜镀膜层，镀层厚度达到0.9nm即可导电，达到30nm时，其性能就和固态铝材相同。银镀层小于5nm时不能导电，铜镀层对基材附着力较差，且容易被氧化。 真空镀膜材料品种繁多，单金属型镀膜材料有：铝、锡、铟、钴、镍、铜、锌、银、金、钛、铬、钼、钨等。合金型的镀膜材料有镍-铬，镍-铁，铁-钴，金-银-金等。金属化合物型的镀膜材料有：SiO2 、 Ti3O5 、 SnO2 、MgF2 、 ZnS等。在众多镀膜材料中，以铝材的应用最多，这是因为铝在真空条件下，蒸发湿度较低，易操作。铝镀膜层对塑料的附着力强，富