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电感耦合等离子体质谱 (Inductively Coupled Plasma – Mass Spectrometry ） (ICP-MS) 付大友 一、ICP-MS的起源和发展 1、1960s~70s，问题的提出 电感耦合等离子体-原子发射光谱技术 (ICP-AES) 优点：痕量多元素同时测定 分析速度快 样品引入简单 缺点：光谱干扰严重 火花源无机质谱用于痕量元素分析 (SSMS) 优点：谱图简单，分辨率适中，检出限低 缺点：样品制备困难，分析速度慢 常规离子源效率低 ICP－MS分析性能 测定对象：绝大多数金属元素和部分非金属元素 检测限：1?10-5(Pt) ~ 159(Cl) ng/mL (ppt~ppm) 分析速度： 20 samples per hour 精度：RSD 5% 离子源稳定性：优良的长程稳定性 自动化程度：从进样到数据处理的全程自动化和远程控制 应用范围：化工、地质、环境、冶金、生物、医药、核工业 可测定同位素的比率 二.ICP-MS的工作原理 三.ICP-MS的基本结构 1.样品引入系统：由蠕动泵和雾化器等组成 2.ICP离子源：RF发生器和ICP焰炬 3.接口和离子透镜：提取离子、挡住光子、形成离子束 4.质量分析器：四级杆分析器，按m/z大小组成质谱 5.真空系统：机械真空泵和涡轮分子泵 6.检测器：双层多价电子倍增器 7.计算机：自动控制、数据运算 3.1 电感耦合等离子体 等离子体的一般概念 等离子体指的是含有一定浓度阴阳离子能够导电的气体混合物。在等离子体中，阴阳离子的浓度是相同的，净电荷为零。 通常用氩形成等离子体。氩离子和电子是主要导电物质。一般温度可以达到10,000K（常用8000K）。 3.2 ICP与MS的接口(Interface) 离子的提取 采样锥(sampling cone) 截取锥(skimmer cone) 离子的聚焦 离子透镜组 真空系统 一个机械泵 一个分子涡轮泵 3.3 质谱仪 四极杆质谱 (Quadrupole Mass) 双聚焦扇形磁场质谱 ( Double-focused Magnetic-Sector Mass Spectrometer ) 飞行时间质谱 (Time-of-flight MS) 3.4 ICP-MS样品引入系统（进样方式） 对液体试样的雾化 流动注射进样 氢化物发生/气体发生进样 电热蒸发直接进样 进样量少 传输率高(60%) 可预先除去溶剂 可预先除去基体 激光烧蚀法——原位(in situ)探测技术 3.5 质谱图及其干扰 ICP-MS的图谱非常简单，容易解析和解释。但是也不可避免的存在相应的干扰问题，主要包括光谱干扰和基体效应两类。 光谱干扰： 当等离子体中离子种类与分析物离子具有相同的质荷比，即产生光谱干扰。 光谱干扰有四种 同质量类型离子 多原子或加和离子 氧化物和氢氧化物离子 仪器和试样制备所引起的干扰 同质量类型离子干扰 同质量类型离子干扰是指两种不同元素有几乎相同质量的同位素。对使用四极质谱计的原子质谱仪来说，同质量类指的是质量相差小于一个原于质量单位的同位素。使用高分辨率仪器时质量差可以更小些。周期表中多数元素都有同质量类型重叠的一个、二个甚至三个同位素。 如：铟有113In+和115In+两个稳定的同位素 前者与113Cd+重叠，后者与115Sn+重叠。 因为同质量重叠可以从丰度表上精确预计．此干扰的校正可以用适当的计算机软件进行。现在许多仪器已能自动进行这种校正。  多原子离子十扰 多原子离子(或分子离子)是ICP-MS中干扰的主要来源。一般认为，多原子离子并不存在于等离子体本身中，而是在离子的引出过程中。由等离子体中的组分与基体或大气中的组分相互作用而形成。 氢和氧占等离子体中原子和离子总数的30％左右，余下的大部分是由ICP炬的氩气产生的。ICP-MS的背景峰主要是由这些多原子离子结出的．它们有两组：以氧为基础质量较轻的—组和以氩为基础较重的一组，两组都包括含氢的分子离子。 例：16O2+干扰32S+ 氧化物和氢氧化物离子干扰 在ICPMS中，另—个重要的干扰因素是由分析物、基体组分、溶剂和等离子气体等形成的氧化物和氢氧化物，其中分析物和基体组分的这种干扰更为明显些。它们几乎都会在某种程度上形成MO+和MOH+离子，M表示