氢促进纯镍位错发射的分子动力学模拟及实验证明.pdfVIP

第 38卷 第 1期 金 属 学厦 V01．38 No1 2002年 1月 17 22页 ACTA METALLURGICA SINICA J龇1．2002 ppl722 氢促进纯镍位错发射的分子动力学模拟及实验证明 李忠吉 李金许 褚武扬 王燕斌 乔利杰 c]E京科技大学材料物理系．北京 100083) 摘 要 采用 EAM 多体势的丹子动力学模拟表明 Ni中固溶的氢能使裂尖发射位错的临界应力强度田子 lc{0=451 从 100MP m 。降为09OMPaIn 使硒 (0=70。)从0．82MPam· ／降为070MPaIn¨ 即茸能促进位错 的发射 导外，氲能使(iii)滑移面上的Griffith裂纹解理扩展的临界应力强度因子硒G【=0。)从 103M-Pa1II 降斯 O93 MPam ¨ 即氢使 (111)面的表面能下降， 11(H)=082~111从而促进位错的发射 透射电镜 (TEM)原位观察表